NMC-4000（M） MOCVD设备

等离子辅助MOCVD技术

NMC-4000(M) MOCVD设备概述：NANO-MASTER针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10^-7Torr极限真空)、PC全自动控制，*的安全互锁。

目前，这项技术延伸到5个4"晶圆的立柜式独立批处理系统，该系统可以集成到集群配置中以满足高产量的要求。

NMC-4000(M) MOCVD设备特点：

• 台式系统
• 10英寸不锈钢腔体
• 带碰头气体分配器的射频等离子源
• 自动调节
• 4英寸基片夹、可加热到900°C
• 5个带独立冷却/加热的起泡器
• 加热气体管道
• 附加流量控制器
• 250升/秒涡轮分子泵组
• 5×10^-7托基准压
• 电脑程序全自动驱动
• 仪器模拟用户界面
• 紧急按钮保护和安全互锁

选配：

• 立式独立系统
• 感应耦合等离子或微波等离子源
• 14英寸电解抛光立方体腔体
• 8英寸或12英寸基片夹
• 6英寸可加热至700°C旋转基板台（4英寸可到950°C）
• 附加的起泡器和MFC
• 晶圆自动装载/卸载
• 可兼容集群配置

应用：

• 3到5族半导体层
• 蓝色发光二极管
• 激光二极管
• 紫外-可见光谱光电中的氮化铟纳米棒
• 3D或2D材料中的二硫化钼、氮化硼、石墨烯