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化工仪器网>产品展厅>实验室常用设备>恒温/加热/干燥>马弗炉/电阻炉/实验炉>OTF-1200X-50-4CLV-PE 4路质子混气管式PECVD系统

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OTF-1200X-50-4CLV-PE 4路质子混气管式PECVD系统

具体成交价以合同协议为准

联系方式:朱沫浥查看联系方式

联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


  合肥科晶材料技术有限公司成立于1997年,是由一群来自麻省理工学院和加州大学伯克利分校的材料研究人员创办的美国MTI公司与中科院合肥物质科学研究院合资兴办的高新技术企业。主要生产氧化物晶体(A--Z)和材料实验室成套设备:包括“混料-压料-烧料”(混料机、压片机、箱式炉、真空管式炉)以及“定向-切割-研磨-抛光”(X射线定向仪、低速外圆锯、金刚石线切割机、自动研磨、抛光机)。公司自主研发生产上百款不同规格尺寸、温度、高温高压及快速升温等产品,其中包括:箱式炉、气氛炉、管式炉、井式炉、RTP快速升温炉、高温高压炉、镀膜机、清洗剂及新能源锂离子电池研发等相关实验室设备。现已成为氧化物晶体(A--Z)的主要制造商和材料研究实验室设备的*,为科研工作者提供材料研究解决方案。产品设计*、性能优异,质量可靠,性价比高,环保节能、返修率低,远销到欧洲,美国,日本,德国等许多国家,广泛应用于物理、化学、冶金、医学、新能源材料研发等领域,受到客户*好评。
 
  科晶公司秉承"以人为本、技术为导、诚信为基、积极创新"的经营理念,全力打造材料研发设备的品牌,竭力为科学进步和社会发展做出贡献。
 

真空管式炉,高温箱式炉,高速震动球磨机,RTP快速退火炉,高温高压炉,涂覆机,电池制备设备等

产地类别 国产 价格区间 面议
仪器种类 管式炉 应用领域 化工,生物产业

 4路质子混气管式PECVD系统技术参数

实验机理

  • 辉光放电等离子体中:电子密度高109-1012cm3

  • 电子气体温度比普通气体分子温度高出10-100

产品特点

  • 虽环境温度在100-300℃,但反应气体在辉光放电等离子体中能受激分解,离解和离化,从而大大提高了反应物的活性。因此,这些具有反应活性的中性物质很容易被吸附到较次温度的基本表面上,发生非平衡的化学反应沉积生成薄膜。

  • 科晶公司提供定制的薄膜材料的实验室质量可靠、价格合理的紧凑型PECVD系统。

  • 下图显示的是PECVD法用500W交流等离子体与OTF1200X507通道精密质量流量计和高真空系统气体组成

OTF-1200X开启式管式炉,工作温度高达1200℃

     化学气相沉积系统的组成图

开启式管式炉

  • 工作温度:1200℃

  • 炉管尺寸:Φ50Φ60Φ80都可用

  • 温度控制器:30段高精度数字可编程温度控制器

  • 加热区长度:440mm

  • 恒温区长度:150mm

  • 功率:AC 220V 4KW

等离子射频电源                        

  • 输出功率:50-500Wzui大可调±1%

  • RF频率: 13.56MHz±0.005%稳定可调

  • 噪声:≤55DB

  • 冷却:风冷

  • 输入功率:1KW  AC 220V

真空泵和阀门                          

  • 采用KF25系列波纹管和精密针阀连接

  • 真空度可达10-3torr

  • 数字真空压力表可直观的显示数值

  • 可选:本公司进口的防腐型数字式真空显示计,其测量范围为3.8x10-5 1125 Torr. 不需因测量气体种类不同而需要系数转换。

质量流量计

  • 内部装有高精度数字显示质量流量计可准确的控制气体流量

  • 气体流量范围为0-200 误差为0.02%

  • 一个气体混气罐的底部安装了液体释放阀

  • 不锈钢针阀安装在左侧可手动控制混合气体输入

  • 进气口:采用标准双卡套接头

4路质子混气管式PECVD系统细节图展示

外形尺寸

  • 炉体:550*380*520mm

  • 供气及真空系统:600*600*597mm

  • 净重:120KG

操作视频 多通道质量控制高真空PECVD管式炉系统

质保期

一年质保期相关耗材除外,如加热元件,密封圈等易耗件

质量认证

  CE认证

国家

名称:可组合式等离子增强化学气相沉积装置

编号:ZL-2011-2-0355777.1

尊重创新、鄙视抄袭、侵权必究

 

 



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