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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>湿法工艺设备>化学机械抛光机(CMP)> CP-4化学机械抛光设备

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CP-4化学机械抛光设备

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北京华跃英泰科技有限公司是一家经营*的精密测量仪器和*的模拟仿真产品的高科技公司,公司主要代理的产品有美国Bruker公司的原子力显微镜,光学轮廓仪,摩擦磨损测试仪和微纳压痕划痕测试仪等相关设备,加拿大Presagis公司的三维视景、虚拟仪表及战术对抗等系列模拟仿真产品,美国Labsphere公司的积分球、通用均匀光源系统及相关光电产品,我们为客户提供完善的技术咨询,销售,及应用服务。我公司总部设立在北京,并且已经取得了政府许可的进出口贸易权。在香港、沈阳已经成立办事处,即将在上海、武汉等地设立办事机构。
   北京华跃英泰科技有限公司将当今世界*的科研设备*给国内从事材料科学、分子生物学、细胞生物学、生物化学、生态学、免疫学、环境科学、化学科学等学科研究人员,以及平板显示、LED和半导体材料相关的高科技企业。我公司作为专业的产品及服务提供商,始终不懈地跟踪各学科的发展前沿,努力将较早、*的方法和技术*给国内的研究人员,以使中国的研究发展紧跟世界潮流。

   北京华跃英泰科技有限公司的虚拟仿真系统部致力于主业提供基于多平台的虚拟现实和模拟仿真技术的可视化解决方案,包括人机界面(HMI)的系统开发、战场环境生成及武器验证系统、三维可视化解决方案、固定翼和旋翼飞机的飞行数据包开发系统等等,我们在模拟仿真领域积累了大量客户和丰富经验。

   北京华跃英泰科技有限公司汇集了一支年轻、专业、朝气蓬勃、富有团队精神的队伍,本着“*、飞跃”的经营理念和“踏实、专业”的精神,华跃英泰将竭诚为您提供完善,专业的服务。

布鲁克原子力显微镜、光学轮廓仪、摩擦磨损、台阶仪、X-Ray

CP-4化学机械抛光设备

CP-4是世界zui通用和的台式化学机械抛光设备(CMP),可以很好的满足您的研发需求。*软件控制,可以对直径4英寸的晶圆和磁盘进行抛光。 CETR-CP-4可检测原位摩擦力,摩擦系数,温度,下压力,磨损,声发射等,可以模拟所有的参数,如速度,负载和流量,来模仿一个大的CMP系统。


用于化学机械抛光的研究和开发的各个方面
• 测试和开发各种不同的微粒,材料,浓度,氧化剂,抑制剂等的抛光液
• 测试和开发不同的材料,沟槽形状,尺寸,弹性,寿命等
• 测试和发展抛光垫调节装置来优化抛光垫的损耗率,修整,效率等
• 开发CMP定位环材料来优化摩擦,磨损,寿命等
• 测试去除率,重复性缺陷,工艺优化等,研究或开发各种应用的各种材料
• 半导体方面 - 铜,Ta, TaN, Al, Si, SiO, Ru, WC, solar cells, PVD, CVD, 薄膜等
• 化合物半导体 - 砷化镓,铟,磷化物,汞,镉
• 应用生物材料 - 牙,骨,钛,钢铁制品等。
• 光电材料 – LED,蓝宝石,红外窗口抛光激光材料,显微镜头,微光学,铌酸锂,钽酸锂,磷酸氧钛钾等。

同时实时监测及处理
• 通过在晶圆垫和调节垫界面处的拥有的传感器,测量负载和摩擦力,
• 通过在晶圆垫和调节垫界面处的拥有的传感器和放大器,测量接触噪声
• 使用声波表征的缺陷、划痕,并在加工过程中分层
• 监测流入的抛光液,抛光片表面和流出废液的温度 .



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