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化工仪器网>产品展厅>常用仪表>光学仪表>其它光学仪表>35 紫外光刻机

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35 紫外光刻机

参考价 ¥ 250000
订货量 ≥1
具体成交价以合同协议为准
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紫外光刻机

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“SIYOUYEN”概念源自于21世纪初期美国,意为科技在社会技术方面应用的*体现。拥有“*生活,*科技”之桂冠美誉。

商标持有人:鑫有研企业集团(香港)有限公司系一家专注于微电子工艺设备技术,真空技术,传动控制技术等科技类投资型企业公司。公司投资合作伙伴有意大利MICHELLE集团与香港CIG集团。

1、微电子工艺设备方面

SIYOUYEN公司在半导体、太阳能、FPD领域湿制程设备的设计、研发、生产及销售;同时代理半导体、太阳能、FPD领域及其它国外设备,负责在中国市场的开发、推广、服务!

2、真空技术设备方面

SIYOUYEN公司在真空行业领域,通过引近韩国、德国*的真空技术与合作,开发出了旋片真空泵,无油真空泵,防爆真空泵等。同时与韩国WONCHANG,韩国DOOVAC,韩国NARA,韩国G&M,韩国KMC,意大利DVP,等形成战略联盟,致力于真空技术的推广与销售。

3、传动控制技术方面

SIYOUYEN公司在传动技术方面与国家各个重点科研领域机构合作(质检,光学,教育,航天,海洋,石油,制药,检测等)共同致力于节能减排低碳环保,涉及节能环保技术、设备、产品和服务等方面

鑫有研公司在设计,制造,销售,服务过程中严格按照ISO9001:2000质量管理体系执行。并且本公司拥有一批技术*、服务优良的高素质人才,和完善的售后服务体系。产品以其*的品质进入国内市场,为国家重点工程配套、环保工业、科研、信息产业等做出了较大的贡献,获得了广大用户的好评和信赖。

我们将继续以严谨的态度始终坚持保证产品品质和信誉为本,用户*的经营原则,不断创造、创新服务于用户。


鑫有研(SIYOUYEN)公司及其“SIYOUYEN”品牌在中国的发展历程

2004年SIYOUYEN公司进入中国

2005年成为中国财富论坛会员单位

2005年获得中国半导体行业协会会员单位

2006年成为中国真空学会会员单位

2007年通过ISO9001:2000质量管理体系认证

2008年获得中国商标

2009年SIYOUYEN获得(香港颁发)亚洲证书

2010年SIYOUYEN获得中国质量500强

2010年SIYOUYEN获得中国品牌500强

2010年SIYOUYEN获得上海市诚信AAAA企业证书



光刻机,显影机,匀胶机,光刻机,烤胶机无油真空泵

 

URE-2000系列 紫外光刻机
型号:URE-2000/35
 
简单介绍:光刻机:(英文名:Mask ALIGENER)又名曝光机, 该型号光刻机创新采用三柔性支点实现高精度自动调平;真空接触自动曝光;样片升降、调平、接触、曝光、复位实现自动化控制;采用技术积木错位蝇眼透镜实现高均匀照明;可连续设定分离间隙;采用双目双视场显微镜实现高对准精度。整机具有性能可靠、操作方便、自动化程度高等特点。
一.技术特征——非常适合工厂(效率高,操作傻瓜型,自动型)
和高校教学科研(可靠性好,演示方便)
采用技术——积木错位蝇眼透镜平滑衍射效应和实现均匀照明;
1、采用三爪和球气浮同时找平,无论大片、小片调平精度均高;   
2、具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝光,以及接近式曝光四种功能;     
3、自动分离对准间隙和消除曝光间隙,间隙分离可达500μm;   
4、高倍率双目双视场显微镜和19英寸宽屏液晶显示同时观察对准过程,
并提供USB输出;既满足高精度对准,又可用于检测曝光结果,且曝光结果和
方便存储;  
5、电机机构、弹性元件和传感器保证接触曝光压力合适且重复性好;    
7、曝光波长采用纯净365nm,冷光照明(曝光面能量15mW/cm ,温度小于30度);      
8、对准完成,自动消除曝光间隙,无横向漂移且可通过监视器观察; 
9、快门可以单独开启,也可以数字设定自动倒计时曝光(设定范围0.1s-9999.9s);     
10、采用350W进口(德国)直流汞灯,可调节光的能量密度;   
11、汞灯具有高亮度和“待机”两种方式,即曝光时采用高亮度照明,而不曝光
时采用低亮度的“待机”,从而延长了汞灯寿命。      
12、设备外形美观精制,性能非常可靠;
13、上下片、版十分方便,自动化程度很高,操作简便。

二.技术参数  
1、曝光面积:100mm×100mm(可升级6英寸) 
2、分辨力:0.8-1µm(胶厚2mm的正胶)     
3、对准精度:
±0.8µm
4
、掩模样片整体运动范围:X:6mm;Y:6mm
5、掩模尺寸:2.5寸、3寸、4寸、5寸
6、样片尺寸直径
Ф15mm--Ф100mm可适应非标准片或碎片)   
7、厚度0.1mm--6mm(可扩展为15mm)
8、照明均匀性:±3%(
Ф100mm范围)
9、掩模相对于样片运动行程:  X:±5mm;  Y:±5mm; 
θ: ±6
10、汞灯功率:350W(直流) 
11、曝光波长:365nm(进口汞灯)
12、曝光能量密度:15mW/cm 可以根据需要增强或调弱(420nm以上波长小于0.1mW/cm )
13、曝光方式:定时(到计时方式0.1s—9999.9s)
 
应用领域 
集成电路芯片、电子封装、微电子机械系统、微光学元件、红外探测器生物电泳芯片、激光二极管光刻、光栅光刻,波导阵列光刻、液晶显示声表器件、平板显示器、大尺寸光栅、码盘刻划等


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