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PHI15000VersaProbe-多功能平台聚焦扫描微区X射线光电子能谱仪

2024-03-28

产      地:
暂无
所在地区:
北京北京市
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产品介绍:

•产品名称:多功能平台聚焦扫描微区X射线光电子能谱仪

•产品型号:PHI15000VersaProbe

•品    牌:日美纳米表面分析仪器公司(U-P)

•产    地:日本

 

产品参数:

•仪器主机功能,单色化Al Kα ;

大面积XPS

Ag3d5/2,1400umx100um, FWHM1.00eV时,灵敏度≥1,000,000 cps
Ag3d5/2,1400umx100um, FWHM0.60eV时,灵敏度≥250,000 cps
小面积XPS,zui小分析面积≤10μm ,性能指标应达到:
Ag3d5/220μm FWHM0.60eV时,灵敏度≥15,000 cps
Ag3d5/2,10μm FWHM0.60eV时,灵敏度≥4,000 cps
Ag3d5/210μm FWHM1.00eV时,灵敏度≥12,000 cps
Typical value for 100um and 20um at 75degree and 45degree

75degree

Ag3d5/220μm , FWHM0.90eV,灵敏度≥ 99kcps

Ag3d5/2100μm , FWHM0.90eV,灵敏度≥ 47kcps

45degree

Ag3d5/220μm , FWHM0.90eV,灵敏度≥ 50kcps

Ag3d5/2100μm , FWHM0.90eV,灵敏度≥ 27kcps

成像XPS

单色化X射线扫描成像,*空间分辨率≤10 μm
深度剖析XPS

聚焦扫描氩离子枪,当working distance30 mm.聚焦氩离子束斑≤150μm,当
working distance
60mm时候,聚焦氩离子束斑≤300μm束流密度≥0.5 mA/cm2

 

产品特点:

世界上*扫描微聚焦X-射线source

世界上*扫描微聚焦X-射线产生的2次电子成像SXI像和XPS成像,可以帮助客户找到肉眼看不见的微观缺陷。;

可以给出10um XPS sensitivity.其他公司不能。20um XPS sensitivity是其他公司同类产品的1倍以上;

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