产品简介：
钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加 热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄 膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作， 也可用于大批量生产前的试验工作，广泛应用 于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED 等研究领域。
| 产品型号 | 钙钛矿镀膜机 |
| 主要特点 | 1、样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置。 2、设有烘烤加热功能，可在镀膜过程中加热样品， 烘烤加热温度为 180℃。 3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。 |
| 技术参数 | 1、镀膜室：不锈钢材料，采用方形前后开门结构，内带有防污板， 腔室尺寸约为 600mm×450mm×450mm 2、真空排气系统：采用分子泵+机械泵系统 3、真空度：镀膜室极限真空≤6×10-4Pa 4、系统漏率：≤ 1×10-7Pa 5、蒸发源：安装在真空室的下底上； 有机蒸发源 4 个、 容积 5ml ，2 台蒸发电源，可测温、控温， 加热温度 400℃， 功率 0.5KW；无机蒸发源 4 套、 容积 5ml ，2 台蒸发电源， 加热电流 300A ，功率 3.2KW；蒸发源挡板采用自动磁力控制方式控制其开启 6、样品架：安装在真空室的上盖上， 可放置 Ø120mm 的样品、载玻片， 旋转速度 0-30rpm 7、加热温度： RT-180℃，测温、控温 8、膜厚控制仪：石英晶振膜厚控制仪， 膜厚测量范围 0-999999Å |
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