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纳糯三维精彩亮相CIOE中国光博会 高新微纳技术赋能产业创新
2025年09月17日 13:16:25
来源：化工仪器网 点击量：5454
2025年9月10日-12日，纳糯三维科技 (上海) 有限公司亮相CIOE中国光博会，赢得展会观众的一致青睐。
2025 年 9 月 10 日 - 12 日，第 26 届 CIOE 中国国际光电博览会(以下简称：CIOE中国光博会)在深圳重磅启幕。作为全球光电产业的核心交流平台，本届展会汇聚海内外超 3800 家优质企业，覆盖信息通信、激光智能制造等全产业链核心领域，全方位呈现全球光电产业前沿创新成果，为上下游企业注入强劲发展动能。其中，纳糯三维科技 (上海) 有限公司(以下简称：纳糯三维)亦亮相展会，凭借德国技术基因与本土化服务优势，赢得展会观众的一致青睐。
纳糯三维展会现场
纳糯三维的母公司 —— 德国 Nanoscribe 成立于 2007 年，总部位于德国卡尔斯鲁厄，是卡尔斯鲁厄理工学院(KIT)孵化的高新技术企业，现隶属于 LAB14 集团。作为高精度增材制造领域的先驱与全球市场领导者，Nanoscribe 始终以突破高分辨率 3D 打印极限为目标，技术广泛应用于微光学、微机械等前沿领域，相关成果已被 2100 多篇经同行评审的期刊出版物引用，技术权威性与行业影响力备受认可。
为更好服务中国市场，Nanoscribe 于 2017 年在上海成立全资子公司纳糯三维科技 (上海) 有限公司，不仅加速了德国新技术在国内的推广落地，巩固并拓展业务合作网络，更承担起系统安装、维护及专业培训等本土化服务，让全球领先的微纳制造技术与中国科研、工业需求深度对接。
Quantum X align系统
Quantum X align 系统基于先进的 2GL® 双光子 3D 打印技术，开创了新一代对准 3D 打印技术方向，可直接在光纤、芯片及晶圆表面制造高分辨率三维结构，并具备自动对准能力，能实现可靠、低损耗的光子耦合，完美适配传感、成像等场景的多样化需求。在打印效率上，系统支持体素尺寸动态调控，可显著减少打印层数，在保证形状精度与光学性能不打折的前提下，解决传统微纳制造 “高精度与高效率难兼顾” 的痛点。
系统搭载对准双光子光刻(A2PL®)技术，能自动检测芯片边缘、光纤核心、晶圆及预结构化基底上的定位标记，以纳米级对准精度在指定位置直接打印自由曲面光学元件，确保打印结构与光学轴严格对齐，可显著降低后续制造与装配流程的复杂性，减少成本投入，为高性能光子器件的规模化生产提供了可靠技术路径。
技术亮点与性能概览
对准3D打印：通过对准双光子光刻(A2PL®)技术，可将高精度光学元件直接打印在光纤核心、芯片表面与边缘，或预设参考标记上，对准精度达纳米级，确保光学性能稳定。
打印速度显著提升： 基于双光子灰度光刻(2GL®)技术，打印速度相比传统双光子聚合(2PP)最高提升 60 倍，同时保持卓越打印质量，兼顾效率与精度。
多材料平台兼容：支持在氮化硅(SiN)、硅(Si)、绝缘体上硅(SOI)、砷化镓(GaAs)、绝缘体上氧化锂(LNOI)等多种光子集成封装平台上直接打印，适配不同应用场景。
光纤对准自动化：搭配光纤打印套件，可自动检测并对准光纤核心，实现高精度打印，减少人工操作误差，提升批量生产一致性。
复杂基底拓扑映射：搭配芯片打印套件及共聚焦检测模块，能对复杂基底的拓扑结构进行自动三维扫描与映射，为精准打印提供数据支撑。
未来，纳糯三维将持续引入先进技术，针对中国科研与工业市场需求优化解决方案，助力国内企业与科研机构在光子集成、生物医学工程、微光学等领域突破技术瓶颈，推动微纳制造边界拓展，为中国光电产业高质量发展注入更多创新动能。
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