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移动端访问更便捷品质创造价值 矽万半导体惊艳亮相纳博会
2024年10月29日 10:21:33
来源:化工仪器网 作者:杨 点击量:9193

在本次CHInano博览会上,矽万半导体向参展观众展示了其最新的半导体技术和产品,包括高精度/高灰度光刻解决方案、超大幅面高精度光刻解决方案等。
【化工仪器网 厂商报道】2024年10月23日,第十四届中国国际纳米技术产业博览会(CHInano)在苏州国际博览中心盛大开幕。本次博览会为期三天,聚焦微纳制造、第三代半导体、纳米应用等多个前沿科技领域,吸引了超过2400家相关企业参展参会。矽万(上海)半导体科技有限公司作为半导体行业的技术型企业,也应邀参加了此次盛会。
矽万(上海)半导体科技有限公司(以下简称:矽万半导体)是一家致力于设计、研发、生产、销售和服务高精密半导体设备的高新技术中外合资企业。公司以“品质创造价值,服务实现共赢”为经营理念,专注于为客户提供PicoMaster无掩模激光直写光刻机,包括设备的安装调试、工艺改进、软件开发、以及可选配的涂胶显影清洗设备等。

矽万半导体展台现场
在本次CHInano博览会上,矽万半导体向参展观众展示了其最新的半导体技术和产品,包括高精度/高灰度光刻解决方案、超大幅面高精度光刻解决方案等。作为一家专注于半导体技术研发与生产的公司,矽万在半导体制造领域积累了丰富的经验和技术实力。此次参展,不仅展示了公司的最新成果,也为业界提供了一个深入了解矽万半导体技术和产品的平台。
高精度/高灰度光刻解决方案
产品名称:PicoMaster ATE-200
技术规格:
分辨率300nm
灰度光刻4096阶
Energy Compensation Method(ECM)

高精度/高灰度光刻解决方案

应用效果图
超大幅面高精度光刻解决方案
产品名称:PICOMASTETR XF ATE-1000
技术规格:
400nm最小分辨率
400nm, 600nm, 1.5um和2.5um四种分辨率自动切换
最大直写速度5000m㎡/minute
光源波长355nm
256阶灰度光刻
幅面200,500,800,1000和1400

超大幅面高精度光刻解决方案

应用效果图
在博览会期间,矽万半导体与来自全球的同行进行了深入的交流与合作探讨,共同探讨了半导体技术的发展趋势和未来方向。通过此次参展,矽万半导体不仅扩大了自身的品牌影响力,也进一步了解了市场需求和行业发展趋势,为未来的技术研发和市场拓展提供了宝贵的经验和信息。相信未来,矽万半导体将继续秉承创新、务实、高效的企业精神,不断加强技术研发和市场拓展,为全球半导体产业的发展做出更大的贡献。
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