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中微公司发布用于深紫外LED量产的MOCVD设备Prismo HiT3™
2020年08月20日 13:54:16
来源：中微 点击量：19014
中国，上海2020年7月30日——中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”，上交所股票代码：688012）宣布推出Prismo HiT3TM MOCVD设备，主要用于深紫外LED量产。
【化工仪器网 新品推荐】中国，上海2020年7月30日 -- 中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“中微公司”，上交所股票代码：688012)宣布推出Prismo HiT3™MOCVD设备，主要用于深紫外LED量产。
中微Prismo系列MOCVD设备目前已进入的蓝绿光LED制造商行列，此次推出的Prismo HiT3™是中微Prismo系列MOCVD设备的新品。该设备是适用于高质量氮化铝和高铝组分材料生长的关键设备，反应腔高温度可达1400度，具有优异的工艺重复性、均匀性和低缺陷率。该设备同时也为高产量而设计，单炉可生长18片2英寸外延晶片，并可延伸到生长4英寸晶片。
中微公司Prismo HiT3™MOCVD设备早期的客户包括国内的深紫外LED制造商马鞍山杰生半导体有限公司，该公司的深紫外LED在家用、医疗和科研设备等领域有广泛应用。
深紫外光几十年前就被应用于工业和民用消毒杀菌领域。它通过破坏细菌和病毒的DNA使其丧失繁殖能力来发挥作用。深紫外LED被用于不同波长的杀菌灯中，且与传统的汞灯相比对环境无污染。类似SARS、MERS和新冠病毒的出现使得深紫外LED产品的需求激增，深紫外LED产品可以消灭这些新生微生物。波长260-280nm的UVC波段的深紫外光就是目前该领域先进的技术解决方案(例如杰生半导体的深紫外LED产品)。
中微公司设计的Prismo HiT3™MOCVD设备具有新颖的腔体设计，能在高温环境下生长高质量氮化铝工艺，并具有业内的深紫外LED高产出率；同时具备较长的平均免开腔维护间隔时间，进一步延长正常运行时间并提高产能。真空自动化传输系统可以抑制颗粒物的产生，并减少缺陷。自动化升降机构可方便维护操作并有效节省维护时间。
“我们现在已经看到了深紫外LED带来的切实好处，它已成为消灭有害病原体的重要工具。”杰生半导体有限公司董事长康健说道，“随着深紫外LED技术的持续发展，我们为能够在公共和家庭消毒产品领域处于前列而感到自豪。中微公司设计的Prismo HiT3™MOCVD设备可以满足深紫外LED大批量、低生产成本的制造需求。中微公司凭借其先进的工艺专长和高性能的MOCVD设备解决方案，是值得信赖的合作伙伴。”
“中微自主研发的Prismo HiT3™ MOCVD设备延续了我们现有Prismo平台已验证的主要创新功能，并提升了可在高温工艺环境下生长氮化铝基材料的性能，使之拓展到深紫外LED的应用。”中微公司执行副总裁兼首席运营官杜志游博士说道，“杰生半导体始终致力于持续发展LED技术并创造有益于人类健康的产品，我们很高兴杰生成为我们的早期用户，同时也很荣幸我们的设备解决方案能够助力客户研发下一代深紫外LED产品，并在技术研发和成本控制上帮助客户达成目标。”
Prismo HiT3™是中微公司的注册商标。
关于中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司(证券简称：中微公司，证券代码：688012)致力于为集成电路和LED芯片制造商提供先进的加工设备和工艺技术解决方案。中微公司开发的等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微观器件的关键设备，可加工微米级和纳米级的各种器件。这些微观器件是现代数码产业的基础，它们正在改变人类的生产方式和生活方式。中微公司的等离子体刻蚀设备已被广泛应用于一线客户从65纳米到5纳米工艺的众多刻蚀应用，中微公司开发的用于LED和功率器件外延片生产的MOCVD设备已在客户生产线上投入量产，目前已在氮化镓基LED MOCVD设备市场占据一定地位。
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