TY-9000 全谱直读光谱仪

>>>全谱直读光谱仪产品简介>>>

TY-9000型全谱直读光谱仪采用标准的设计和制造工艺技术，采用全数字化技术，替代庞大的光电倍增管（PMT）模拟技术，与光谱仪技术同步，采用真空光学室设计及全数字化激发光源、的CCD检测器、高速数据读出系统，使仪器具有*的性能、极低的检出线、*的稳定性和重复性。适用于金属制造业、加工业及金属冶炼业用于质量监控、材料牌号识别、材料研究和开发的主要设备之一。满足冶炼、金属制造和机械加工的用户要求，采用全电脑控制全数字火花光源，运用CCD检测技术及*的真空光室，可精确测定非金属元素中各种合金元素含量，实现全谱分析。测定结果精准，重现性及*稳定性。

>>>产品特点>>>

1. 可精确测定各种合金元素含量，测定结果精准，重现性及*稳定性；

2. *的真空光学室结构设计，使真空室容积更小，抽真空速度不到普通光谱仪的一半。将入射窗与真空室分离使入射窗日常清洗维护方便快捷；

3. 光学系统自动进行谱线扫描，自动光路校准，确保谱线接收的正确性，免除繁琐的波峰扫描工作；

4. *的激发台及氩气气路设计，大大降低了氩气使用量。灵活的样品夹设计，以满足客户现场的各种形状大小的样品分析；

5. 不增加硬件设施的情况下，可实现多基体分析。相比光电倍增管光谱仪可大大降低使用成本及使用范围；

6. 采用喷射电极技术。在激发状态下，电极周围会形成氩气喷射气流，这样在激发过程中激发点周围不会与外界空气接触，提高激发精度；

7. 的光谱操作软件*兼容于windows系统。同时可以根据客户需求配备各种语言版本。软件操作简单即使没有任何光谱仪知识及操作经验的人员只需经过简单的培训即可上手使用；

8. 采用高性能FPGA、DSP及ARM处理器，具有超高速数据采集分析功能，并能自动实时监测控制光室温度、真空度、氩气压力、激发光源等模块的运行状况；

9. 全数字化等离子激发光源，超稳定能量释放在氩气环境中激发样品。全数字激发脉冲，确保激发样品等离子体能量超高分辨率和高稳定输出。满足各种不同材料的激发要求；

10. 样品激发台采用铜火花台底座，钨材料电极；铜火花台底座为激发台提供较好的散热及坚固等特性，同时钨电极使用寿命长，耐高温等特性也提高了激发的性能；电极自吹扫功能的设计，为激发创造了良好的环境，也使激发台清洁电极更加容易。

>>>技术特点>>>

1、光学系统

1) 分析基体：Fe、Cu、Al、Ni、Ti、Co、Zn、Sn、Mg、Pb等；

2) 光学结构：帕邢-龙格罗兰圆全谱真空型光学系统；

3) 波长范围：130-800nm；

4) 焦距：400mm；

5) 光栅刻线：3000条；

6) 探测器：多个高性能CCD探测器；

7) 电极：钨材喷射电极；

8) 分析间隙：样品台分析间隙：3.4mm；

9) 光源类型：全新可调节数字化光源，高能预燃技术（HEPS）；

10) 激发频率：100-1000Hz；

11) zui大放电电流：400A；

12) 真空系统：真空软件自动控制、监测，真空光室设计，保证C、S、P、N都能达到*性能，一体化光学室加工成型，耐环境中的温度变化；

13) 光室恒温控制：恒温温度35℃；直射式光学技术及透镜MgF2材料，保证C、S、P、N紫外波长的*能量。

2、样品激发台

1) 集成气路、喷射电极技术；

2) 优化的氩气气路设计保证激发台的有效冷却和激发过程中产生的金属粉尘有效进入过滤器；使样品激发更加稳定，并大大减少了人体对金属粉尘的摄入，有利于保护操作人员的健康安全；

3) 更小的激发空间，使氩气消耗更小；

4) 便于使用的样品夹具；

5) 具有电极自吹扫功能，使电极使用寿命更长、清洁电极更加容易；

6) 13mm的激发孔径更利于样品分析；

7) 开放式样品激发台可适应各种大小、更多形状样品的分析（含线材）；

8) 单反式透镜装置设计，一般人员都能方便对激发台进行维护和透镜的清洗。

3、激发光源

1) 全新可调节数字化光源，zui高频率可达1000Hz；

2) 高能预然技术（HEPS）；

3) 优化设计的控制和功率电路，完善的激发安全保护功能；

4) 为不同分析目标提供*火花、电弧或组合激发波形；

5) 放电电流：zui大400A。

4、数据采集系统

1) 高性能ARM数据处理器，具有超高速数据采集及控制功能；

2) 高性能CCD固态检测技术，波段内的谱线全谱接收；

3) 外置式计算机；

4) FPGA及高速数据通讯技术，数据读入功能强大，检测数据整体读入时间短。

5、分析软件

1) 基于Windows系统的多国语言的CCD全谱图形化分析软件，方便实用；

2) *管理的控制整个测量过程及为用户提供强大的数据处理能力和测试报告输出能力；

3) 仪器可配置多条工厂校正曲线及更多材质分析及*解决方案；

4) 软件实现全谱检测、智能扣干扰、扣暗电流、背景和噪声的算法，提高仪器的分析能力；

5) 完备的自动系统诊断功能；

6) 完善的数据库管理功能，可方便查询、汇总数据；

7) 智能校正算法，保证仪器稳定可靠；

8) 完备的谱线信息和干扰扣除算法，保证仪器分析更为精准；

9) 适应的Windows操作系统。

>>>技术描述>>>

1. 检测基体：Fe基、铝基、铜基；

2. 检测时间：试样品类型而定，一般25s左右；

3. 光学系统：帕型－龙格罗兰圆全谱真空型光学系统；

4. 波长范围：130～800nm；

5. 焦距：400mm；

6. 探测器：高性能CCD阵列；

7. 电极：钨材喷射电极；

8. 分析间隙：样品台分析间隙：3.4mm；

9. 工作温度：(10～35)℃；

10. 存储温度：(0～45)℃；

11. 工作湿度：20％～80％；

12. 氩气纯度要求：99.999%；

13. 氩气进口压力：0.5MPa；

14. 氩气流量：激发流量约3.5L/min，维持流量约0.4L/min；

15. 激发zui大功率：400VA；

16. 光源类型：全新可调节数字化光源，高能预燃技术（HEPS）；

17. 放电频率：100-1000Hz；

18. 放电电流：zui大400A；

19. 激发台孔径：13mm；

20. 真空系统：真空软件自动控制、监测；

21. 工作电源：220V AC，50/60Hz，保护性接地的单相电源；

22. 仪器尺寸：860*720*500；

23. 仪器重量：约100kg。