光刻胶的定义及其成分
光刻胶的定义:
光刻胶(Photoresist简称PR)又称光致抗蚀剂,它是一种对光敏感的有机化合物,它受紫外光曝光后,在显影液中的溶解度会发生变化。
作用:
a、将掩膜板上的图形转移到晶圆表面顶层的光刻胶中;
b、在后续工序中,保护下面的材料(刻蚀或离子注入)。
光刻胶的主要成分
树脂:光刻胶树脂是一种惰性的聚合物基质,是用来将其它材料聚合在一起的粘合剂。光刻胶的粘附性、胶膜厚度等都是树脂给的。
感光剂:感光剂是光刻胶的核心部分,它对光形式的辐射能,特别在紫外区会发生反应。曝光时间、光源所发射光线的强度都根据感光剂的特性选择决定的。
溶剂:光刻胶中容量zui大的成分,感光剂和添加剂都是固态物质,为了方便均匀的涂覆,要将它们加入溶剂进行溶解,形成液态物质,且使之具有良好的流动性,可以通过旋转方式涂布在wafer表面。
添加剂:用以改变光刻胶的某些特性,如改善光刻胶发生反射而添加染色剂。
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