主要特点:
UIS无限远校正光学系统,提供出色的图像质量;
人机工程学的进一步改善,使操作更为舒适;
多种高度功能化的附件,能满足各种检验需要。
用途:
针对半导体工业、硅片制造业、电子信息产业、治金工业开发的,作为工业显微镜使用。可进行明暗场观察、落射偏光、DIC观察,广泛用于工厂、研究机构、高等院校对硅片、电路基板、FPD、精密模具的检测分析。
优点:
配有大移动范围的载物台、落射照明器、平场无限远长工作距离明暗场物镜、大视野目镜、图像清晰,衬度好。
优势:
紧凑的Y型匀设计,稳定且占地小;
新的光路设计,光效率更高,采用长寿命卤素光源;
反射镜体,可用于明场、简易偏光、微分干涉相衬观察;
显微镜本体,反射照明器,物镜转换器都采用防静电设计(ESD)。
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