半导体等离子处理机

    OLED又叫有机电激光显示、有机发光半导体，具有优秀的图象质量，特别是在亮度以及对比度等方面，因此被广泛应用于彩色显示器。。近十年来，对OLED的研究得到广泛的关注，对未来的图象显示技术带来无法估量的冲击。OLED器件的性能与空穴注入过程有非常密切的关系，通过使用锡掺杂氧化铟（ITO）做OLED的阳极。

    固体表面的结构和组成都与内部不同，处于表面的原子或离子表现为配位上的不饱和性，这是由于形成固体表面时被切断的化学键造成的。正是由于这一原因，固体表面极易吸附外来原子，使表面产生污染。因环境空气中存在大量水份，所以水是固体表面最常见的污染物。由于金属氧化物表面被切断的化学键为离子键或强极性键，易与极性很强的水分子结合，因此，绝大多数金属氧化物的清洁表面，都是被水吸附污染了的。

    等离子处理机如何进行工作，工作流程？

1、首先将被清洗的工件送入真空机并加以固定，启动运行装置开始排气，让真空腔内的真空程度达到10Pa左右的标准真空度。一般排气时间大约需要几分钟。

2、然后向真空室内引入等离子清洗用的气体，并保持腔内压强稳定。

3、在真空室内的电极与接地装置之间施加高频电压，使气体被击穿并通过辉光放电而发生等离子化和产生等离子体，让在真空腔内产生的等离子体笼罩住被处理的工件并开始清洗作业，一般清洗处理持续几十秒到几十分钟不等，根据处理材质的不同而定。

4、清洗完毕后切断电源，并通过真空泵将气体和气化的污垢抽走排出，清洗结束。

    将基片放在底座上，在真空系统中通入不同的混合气体，并在金属电极上家射频电压将气体电离，形成等离子体，以非常快的速度轰击ITO基片。为了形成较均匀的电场，电极采用金属栅网结构。等离子体的作用通常是改变表面粗糙度和提高功函数。研究发现，等离子作用对表面粗糙度的影响不大，只能使ITO的均方根粗糙度从1.8nm降到1.6nm，但对功函数的影响却较大。

    用等离子体处理提高功函数的方法也不尽相同。氧等离子处理是通过补充ITO表面的氧空位来提高表面氧含量的。氧同表面有机污染物反应生成CO2和H2O，去除了表面有机污染物。SF6通过在ITO表面形成一层含氟层来提高表面功函数，对粗糙度的改变不明显。Ar等离子处理是通过除区在装载基片过程中吸附的氧来清洁ITO表面的。