GalvanoTest2000电解膜厚仪

GALVANOTEST 2000电解膜厚仪特点是：
•可测实际应用的所有镀层
•利用库仑电量分析原理，测量镀层、多层镀层
•符合标准：DIN EN ISO 2177

电解测厚法：此方法有别于以上三种，不属于无损检测，需要破坏涂镀层，一般精度也不高。测量起来比较其他几种麻烦。

典型应用：

破坏性测量：
电镀涂层如金属或非金属基材上的铬，镍，镉，铜，黄铜，银，金，锡，锌

仪器特征：

8脱镀速度为0.3至40μm/ min

测量表面介于0.25和8mm²之间
测量范围在50nm和75μm/ 0.002-3密耳之间
用于测量电线的电解质烧杯（附件）
可变关闭速度，用于测量合金区域
用于小型部件和电线测量的各种特殊附件

数据存储

可存储不同金属测量参数的数目

可存储2000个读数和统计值 

仪器断电后可保持所有校准值、读数、统计值。

统计计算

显示6种统计值：均值、标准偏差、变异系数、zui大、zui小值、读数个数

立即或稍后显示统计值

显示、打印年、月、日、时、分

用于外设的计算机接口：

MINIPRINT 微型打印机接口

RS-232，PC计算机接口

连接x-t计录仪模拟电压输出接口

概述：

德国EPK(Elektrophysik)公司库仑镀层测厚仪GalvanoTest 2000，应用库仑电量分析原理。其过程类似于电镀，但电化学反应的方向相反，是电解除镀。可以用于测量几乎所有基体上的电镀层厚度。基体包括钢铁、有色金属以及绝缘材料。例如铁上镊、铁上锌、铜上银、环氧树脂上的铜等。
测量时只需去除几乎看不到的一小块面积的镀层金属，而基体不受影响。库仑法确保测量结果准确、可靠，仪器使用简便。测量操作由仪器的指令自主完成，操作者不需要专业知识

笃挚仪器（上海）有限公司

：张磊

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