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广州竞赢科学仪器有限公司>>电镜室常用设备>>Pioneer 120 Advanced PLD脉冲激光沉积系统PLD

脉冲激光沉积系统PLD

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具体成交价以合同协议为准
  • 型号 Pioneer 120 Advanced PLD
  • 品牌 其他品牌
  • 厂商性质 代理商
  • 所在地 广州市

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更新时间:2021-10-14 13:27:30浏览次数:1439

联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!

产品简介

产地类别 进口 价格区间 100万-200万
应用领域 环保,生物产业,地矿,电子    
脉冲激光沉积系统PLD:脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition)是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。

详细介绍

Neocera Pioneer 系列 脉冲激光沉积系统PLD— 基于经验的创新设计
Neocera 利用PLD 开展了深入广泛的研究,建立了获得超薄薄膜质量的临界参数,特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。
• 很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压(>100 Torr)下冷却可获得更高的质量。所有Pioneer系统都具备此功能(压力范围可从额定初始压强到大气压)。这也有益于纳米粒子的生成。
• Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°,保持了激光密度在靶材上的大均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点,导致密度均匀性的损失。
• 为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵,消除油的回流对薄膜质量的影响,所有Pioneer系统的标准配置都采用无油泵系统。
• 我们的研究表明靶和基片的距离是获得超薄薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统可以控制靶材和基片的距离,以达到更好的沉积条件。

脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition)是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的*之处是能量源(脉冲激光)位于真空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成一系列具有*功能的纳米结构和纳米颗粒。另外,PLD 是一种“ 数字" 技术,在纳米尺度上进行工艺控制(Å/pulse)。
• Neocera 在PLD 设备与工艺开发方面具有不可超越的经验
• Pioneer 系列PLD 系统是研发领域为广泛使用的商业化系统
• Neocera 不仅为客户提供基本的PLD 系统,也提供完整的PLD 实验室交钥匙方案

脉冲激光沉积系统PLD技术指标:

Pioneer240

Pioneer180

Pioneer120A


大wafer 直径

8"

6"

2"

大靶材数量

6 个1" 或3 个2"

6 个1" 或3 个2"

6 个1" 或3 个2"

压力(Torr) 

5*10-8

5*10-9

5*10-9

真空室直径

24"

18"

12"

基片加热器

360°旋转

360°旋转

360°旋转

高样品温度

850 ℃

850 ℃

950 ℃

Turbo 泵抽速*
(liters/sec)

700

软件控制

400

软件控制

260

软件控制

计算机控制

包括

包括

包括

基片旋转

包括

包括

选件

基片预真空室

包括

选件

选件

扫描激光束系统

包括

选件

-

靶预真空室

包括

选件

-

IBAD 离子束辅助沉积

选件

选件

选件

CCS 连续组成扩展

选件

选件

-

高压RHEED

选件

选件

选件

520 liters/sec 泵

N/A

选件

-

... ...




• 作为完整PLD 实验室解决方案供应商,我们还可提供:248nm 激光器(准分子、固体等),激光气体柜,激光器和光学器件,以及光学器件等。
• 带* 的项目均可客户化。

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