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  • 1200℃单温区可倾斜旋转炉 参考价: 面议

    参考价: 面议 型号:OTF-1200X-4-R
    1200℃单温区可倾斜旋转炉OTF-1200X-4-R是针对无机化合物煅烧,为获得较好的一致性而设计。特别对于锂电池负极材料的制备,具有好的效果,且可提高导电性...
    型号: OTF-1200X... 品牌:其他品牌所在地:上海市 对比
    马弗炉管式炉合肥科晶真空管式炉
    2024/4/25 21:58:241490
  • 1200℃开启式双温区管式炉 参考价: 面议

    参考价: 面议 型号:OTF-1200X-II
    1200℃开启式双温区管式炉OTF-1200X-II最高温度可达到1200℃,并可通过调节两个独立的控温程序,使炉管内温度场形成一梯度。本机可用CVD方法来生长...
    型号: OTF-1200X... 品牌:其他品牌所在地:上海市 对比
    马弗炉管式炉合肥科晶真空管式炉
    2024/4/25 21:56:151853
  • 1200℃微型开启式管式炉 参考价: 面议

    参考价: 面议 型号:OTF-1200X-S
    1200℃微型开启式管式炉OTF-1200X-S是小型管式炉,最高工作温度为1200℃,最大功率为1200W,可配置直径为1“或2“的高纯石英炉管。炉管两端配置...
    型号: OTF-1200X... 品牌:其他品牌所在地:上海市 对比
    马弗炉管式炉合肥科晶管式炉
    2024/4/25 21:54:001523
  • 1200℃小型井式炉(9升) 参考价: 面议

    参考价: 面议 型号:VBF-1200X
    VBF-1200X立式箱式炉是以进口电阻丝为加热元件,采用K型热电偶和30段可编程温度控制器。上开式炉门结构,方便客户放取样品。该炉具有体积小、重量轻、温场均衡...
    型号: VBF-1200X 品牌:其他品牌所在地:上海市 对比
    马弗炉箱式炉合肥科晶井式炉
    2024/4/25 21:51:541584
  • 排胶炉 参考价: 面议

    参考价: 面议 型号:KSL-1200X-M-F
    炉体和电源箱分开设计,加热部分可以轻松放入通风柜,此款设备可应用于各种陶瓷,多孔材料,3D打印等领域的退火,烧结,精细排胶,脱脂和材料烧结过程中的腐蚀和污染控制...
    型号: KSL-1200X... 品牌:其他品牌所在地:上海市 对比
    马弗炉箱式炉合肥科晶排胶炉
    2024/4/25 21:50:171507
  • 高温箱式蒸发颗粒收集炉 参考价: 面议

    参考价: 面议 型号:KSL-1700X-A2-SJ
    KSL-1700X-A2-SJ高温箱式炉;设备最高温度可达1700℃。集控制系统与炉膛为一体。内部有方形刚玉匣钵,带有匣钵盖,左侧为进气孔,上侧为排气孔,有刚玉...
    型号: KSL-1700X... 品牌:其他品牌所在地:上海市 对比
    马弗炉箱式炉合肥科晶排胶炉
    2024/4/25 21:48:461375
  • 实验型微波箱式炉 参考价: 面议

    参考价: 面议 型号:KSL-1400X-MW
    KSL-1400X-MW是一款微波款速加热的实验型箱式炉,与传统马弗炉相比将节省90%的加热时间,大大提高工作效率,适用于电子陶瓷、磁性材料电子陶瓷粉体、锂离子...
    型号: KSL-1400X... 品牌:其他品牌所在地:上海市 对比
    马弗炉箱式炉合肥科晶微波箱式炉
    2024/4/25 21:46:481928
  • 1600℃实验型微波箱式炉 参考价: 面议

    参考价: 面议 型号:KSL-1600X-MW6
    KSL-1600X-MW6是一款微波快速加热的实验型箱式炉,加热速率可达60℃/min,适用于电子陶瓷、磁性材料电子陶瓷粉体、锂离子电池正极材材料及其他无机氧化...
    型号: KSL-1600X... 品牌:其他品牌所在地:上海市 对比
    马弗炉箱式炉合肥科晶微波箱式炉
    2024/4/25 21:44:291529
  • 1200℃小型水平真空坩埚炉 参考价: 面议

    参考价: 面议 型号:VBF-1200X-H8
    VBF-1200X-H8是一款加热丝均匀分布石英腔体外侧的真空管式炉。腔体尺寸中200x340mm水平安装。配备专用水冷法兰及针阀密封,使用双旋片机械泵或分子泵...
    型号: VBF-1200X... 品牌:其他品牌所在地:上海市 对比
    马弗炉箱式炉合肥科晶混合箱式炉坩埚炉
    2024/4/25 21:42:561647
  • 5面加热气氛箱式炉 参考价: 面议

    参考价: 面议 型号:KSL-1200X-H2
    KSL-1200X-H2是一款5面加热的气氛箱式炉(温场更加均匀),此炉设计的目的是对材料在惰性气体或纯O2环境下进行热处理,长期使用温度为1100℃。设备炉膛...
    型号: KSL-1200X... 品牌:其他品牌所在地:上海市 对比
    马弗炉箱式炉气氛炉合肥科晶
    2024/4/25 21:40:501582
  • 1750℃小型箱式炉 参考价: 面议

    参考价: 面议 型号:KSL-1750X-S
    KSL-1750X-S是一款通过CE认证的高温箱式炉,是我公司最新推出的一款微型高温箱式炉,与KSL1700X高温炉相比,此款设备体积小巧,能耗低(功率:2.5...
    型号: KSL-1750X... 品牌:合肥科晶所在地:上海市 对比
    合肥科晶箱式炉马弗炉1750℃
    2024/4/25 21:38:291510
  • 1700℃高温箱式炉(1.8L) 参考价: 面议

    参考价: 面议 型号:SKL-1700X-S
    KSL-1700X-S是一款通过CE认证的节能型紧凑高温马弗炉(10℃/min加热时,功率1kW)。适合在研究所或科研实验室使用,是一款较为理想的退火和材料烧结...
    型号: SKL-1700X... 品牌:其他品牌所在地:上海市 对比
    马弗炉箱式炉1700℃
    2024/4/25 21:36:101433
  • 磁控溅射仪 参考价: 面议

    参考价: 面议 型号:GSL-CKJS-450-B1
    磁控溅射仪可用于金属、半导体、绝缘体等多种新型薄膜材料的制备,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,可广泛用于大专、科研院所的薄膜材料研究、制备...
    型号: GSL-CKJS-... 品牌:其他品牌所在地:上海市 对比
    离子溅射高真空溅射
    2024/4/25 21:34:032911
  • 磁控溅射 参考价: 面议

    参考价: 面议 型号:GSL-CKJS-560-B2
    高真空溅射可用于金属、半导体、绝缘体等多种新型薄膜材料的制备,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,可广泛用于大专、科研院所的薄膜材料研究、制备...
    型号: GSL-CKJS-... 品牌:其他品牌所在地:上海市 对比
    磁控溅射磁控溅射仪
    2024/4/25 21:32:071722
  • 磁控溅射卷绕镀膜机 参考价: 面议

    参考价: 面议 型号:
    磁控溅射卷绕镀膜机是磁控溅射多用途卷绕镀膜设备,适用于在 PET 和无纺布上镀制金属膜(铜,铝等)功能性薄膜,设备采用先进的磁控溅射镀膜技术,配备直流、射频磁控...
    型号: 品牌:其他品牌所在地:上海市 对比
    磁控溅射磁控溅射仪
    2024/4/25 21:30:321834
  • 磁控溅射镀膜仪 参考价: 面议

    参考价: 面议 型号:GSL-1100X-SPC-16M
    GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪在真空环境中利用粒子轰击靶材产生的溅射效应,使得靶材原子或分子从固体表面射出,在基片上沉积形成薄膜的过程。属于物...
    型号: GSL-1100X... 品牌:其他品牌所在地:上海市 对比
    磁控溅射磁控溅射仪
    2024/4/25 21:28:481984
  • 薄膜电池制备系统 参考价: 面议

    参考价: 面议 型号:VGB-600-3HD
    VGB-600-3HD薄膜电池制备系统可在手套箱内进行实验操作,用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物...
    型号: VGB-600-3... 品牌:其他品牌所在地:上海市 对比
    磁控溅射磁控溅射仪
    2024/4/25 21:26:181442
  • 双靶磁控溅射仪 参考价: 面议

    参考价: 面议 型号:VTC-600-2HD-1000
    VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜...
    型号: VTC-600-2... 品牌:其他品牌所在地:上海市 对比
    磁控溅射磁控溅射仪
    2024/4/25 21:24:112457
  • 单靶磁控溅射仪 参考价: 面议

    参考价: 面议 型号:VTC-600-1HD
    VTC-600-1HD单靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜...
    型号: VTC-600-1... 品牌:其他品牌所在地:上海市 对比
    磁控溅射磁控溅射仪
    2024/4/25 21:22:391791
  • 三靶磁控溅射仪 参考价: 面议

    参考价: 面议 型号:VTC-600-3HD
    VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化...
    型号: VTC-600-3... 品牌:其他品牌所在地:上海市 对比
    磁控溅射磁控溅射仪
    2024/4/25 21:20:411611
  • 双靶磁控溅射仪 参考价: 面议

    参考价: 面议 型号:VTC-600-2HD
    VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜...
    型号: VTC-600-2... 品牌:其他品牌所在地:上海市 对比
    磁控溅射磁控溅射仪
    2024/4/25 21:18:421754
  • 1700℃真空气氛管式炉 参考价: 面议

    参考价: 面议 型号:KSL-1700X-GS
    1700℃真空气氛管式炉主要特点:炉膛顶部安装防爆机械排气阀;带过电流过电压保护,漏电保护电气元件及电缆,冷压端子均符合UL认证标准;针对于材料在惰性气体环境进...
    型号: KSL-1700X... 品牌:合肥科晶所在地:上海市 对比
    真空气氛管式炉气氛炉箱式气氛炉
    2024/4/25 21:16:173232
  • 1700℃二通道混气真空CVD气相沉积 参考价: 面议

    参考价: 面议 型号:GSL-1700X-HVC
    1700℃二通道混气真空CVD气相沉积介绍:是一款CE认证的二通道高真空CVD系统,它是由二路质子混气系统和高真空机组组成,其最高工作温度可达1600℃,极限真...
    型号: GSL-1700X... 品牌:所在地:上海市 对比
    CVD气相沉积高真空CVD系统真空炉
    2024/4/25 21:14:243183
  • 气氛炉 参考价: 面议

    参考价: 面议 型号:GSL-1800X-60(UL)
    GSL-1800X是一款通过CE认证的高温管式气氛炉,其内膛中嵌有ZrO2的内衬,加热元件采用Kanthal Super-1900硅钼棒,所以使得仪器最高温度可...
    型号: GSL-1800X... 品牌:合肥科晶所在地:上海市 对比
    管式气氛炉
    2024/4/25 21:12:431934

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