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VTC-200-CE半柜式清洗机采用直线导轨控制柱状液流沿 wafer.半径方向来回扫动,同时配备有去离子水淸洗和氮气吹干功能,采用高精度伺服电机控制 wafer的旋转,由七寸全彩触屏进行操作，全不锈钢机柜,耐腐蚀透明观察盖,丝杆直线导轨,不锈钢内腔,设计合理,经久耐用。伺服马达控制旋转速度和时间,自动控制显影、清洗和吹干,显影/清洗均匀性和重复性好。
1、不锈钢半柜式设计，触摸屏操作
2、透明观察窗，带排废和抽风功能
3、可移动式直线导轨清洗，行程可定制
4、最多可配备四路清洗或氮气吹干系统
5、可处理最大基片尺寸为8寸晶圆，向下兼容
6、更大尺寸可定制
| 产品名称 | VTC-200-CE半柜式清洗机 | |
| 产品型号 | VTC-200-CE | |
| 主要参数 | 1、旋转速度可调范围：20-10000rpm 2、加速度可调范围：0-50000rpm/s 3、标配直线导轨行程：100mm；最大移动速度:100mm/s 4、标配两路喷液系统，扇形或柱形喷嘴可选 5、标配10L不锈钢压力桶两只，其它规格可选 6、清洗液或氮气加温系统可选配 | |
| 产品规格 | 尺寸：940mm(长)×800mm(宽)×1100mm（高） | |
