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微小器件特性评价装置nanoEBAC NE4000
  • 微小器件特性评价装置nanoEBAC NE4000
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具体成交价以合同协议为准
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更新时间:2016-08-25 00:47:35浏览次数:1816评价

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日立NE4000 nanoEBAC是一种基于电子束吸收电流的探针检测系统,用于电气特性评价,电子束吸收电流分析以及微电子器件连接线,材料,成分的成像。

微小器件特性评价装置nanoEBAC NE4000 特点

  • 采用日立技术的高效电子束吸收电流表征放大器,生成优质电子束吸收电流表征图像。
  • 直观的图形用户界面,具有各种图像和颜色处理功能。
  • 具有现场考验实绩,低色差,低加速电压下成像所需的冷场发射电子枪,减小电路的电子束损伤。
  • 高精度纳米探测装置。
  • 通过样品室内CCD相机系统实现探测位置的初始定位。


电子束吸收电流表征技术提供了一种快速,有效地识别内部连接开路,高电阻以及短路的方法,无需低平层的直接探测技术。EBAC技术利用电子束穿过绝缘层,使低位的金属层吸收电子束电流。
通过场发射扫描电子显微镜的加速电压,控制电子束穿透电介质层的探测深度。单个探针放置于外露的上层金属薄膜上,形成闭合回路,以便电子流过连接线。使用两个探针和日立技术的差动电子束吸收电流表征放大器,可产生赛贝克效应,从而观察高电阻和短路情况。

 

应用数据(Renesas电子公司样品)


采用彩色显示功能,对4层铝质连接线进行电子束吸收电流表征成像。
*电流放大器图像

 

微小器件特性评价装置nanoEBAC NE4000 规格

日立

探测装置
装置编号 4
驱动方法 压电式
微动行程范围 5μm (X,Y)
粗动行程范围 6mm (X,Y)
样品台/基座台
样品尺寸 25mm × 25mm × 1mm 厚或更薄
横向位置 测量/样品交换位置
样品交换 气锁交换室
探针导航 样品台平移探针定位
测量位置记忆
探针粗调
CCD图像显示 横向图像显示
电子光学
电子枪 场发射电子源
加速电压 0.5kV to 30kV
分辨率 15nm (2kV,工作距离为15mm)
图像移动 ±150μm (2kV,工作距离为15mm)
电子束吸收电流放大器/图像显示
放大器类型 电流放大器/差动放大器
图像显示 SEM/EBAC(单一/并列/叠加)
图像处理 黑白反转显示,彩色显示,亮度调节,积分慢扫描,层区扫描


 

尺寸与重量

主机 1,100(W)× 1,550(D)× 1,750(H)mm,
850kg
显示装置 1,000(W)× 1,005(D)× 1,200(H)mm,
265kg

安装环境要求

室温 15至25 ºC
湿度 相对湿度不高于60%
电源 AC100V±10% 5kVA (M5接线端子)
接地电阻 不高于100Ω

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