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更新时间：2016-06-21 19:35:36浏览次数：1578评价

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产品简介

详细信息专门为电子束敏感样品和需Z大300万倍稳定观察的先进半导体器件，高分辨成像所设计。

新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。
0.4nm / 30kV（SE）
1.2nm / 1kV（SE）
0.34nm / 30kV（STEM）
用改良的高真空性能和的电子束稳定性来实现高效率截面观察。
采用全新设计的Super E x B能量过滤技术，高效，灵活地

详细介绍

SU9000超高分辨率场发射扫描电子显微镜详细信息

专门为电子束敏感样品和需zui大300万倍稳定观察的先进半导体器件，高分辨成像所设计。

新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。
- 0.4nm / 30kV（SE）
- 1.2nm / 1kV（SE）
- 0.34nm / 30kV（STEM）
用改良的高真空性能和的电子束稳定性来实现高效率截面观察。
采用全新设计的Super E x B能量过滤技术，高效，灵活地收集SE / BSE/ STEM信号。

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