高精度光学浮区法单晶炉

      Quantum Design Japan公司推出的高温光学浮区法单晶炉，采用镀金双面或4面镜、高反射曲面设计，高温度可达2100℃-2200℃，系统采用高效冷却节能设计（不需要额外冷却系统），稳定的电源输出保证了灯丝的恒定加热功率......

应用域：

■  高温超导体

■  介电和磁性材料

■  金属间化合物

■  半导体/光学晶体/宝石

产品点：

■  占地空间小，操作简单，易于上手，立支撑设计

■  镀金双面或4面高效反射镜，加热效率更高

■  可实现温度达2150°C

■  稳定的电源

■  内置闭循环冷却系统，无需外部水冷装置

■  采用商业化标准卤素灯

      光学浮区法（垂直区熔法）也可以说是种垂直的区熔法。在生长装置中，在生长的晶体和多晶棒之间有段靠光学聚焦加热的熔区，该熔区有表面张力所支持。熔区自上而下或自下而上移动，以完成结晶过程。

      浮区法的主要点是不需要坩埚，也由于加热不受坩埚熔点限制，可以生长熔点*材料。生长出的晶体沿轴向有较小的组分不均匀性在生长过程中容易观察等。浮区法晶体生长过程中，熔区的稳定是靠表面张力与重力的平衡来保持，因此，材料要有较大的表面张力和较小的熔态密度。浮区法对加热技术和机械传动装置的要求都比较严格。

镜面系统

发表文章

1. High quality(InNb)0.1Ti0.9O2 single crystal grown using optical floating zone method, Journal of Crystal Growth 446(2016)74–78.

2. 光学浮区法生长掺铟氧化镓单晶及其性能, 硅酸盐学报 Vol. 45，No. 4，April，2017，P548-P552.

3. Ultralow-temperature heat transport in the quantum spin liquid candidate Ca10Cr7O28 with a bilayer kagome lattice, PHYSICAL REVIEW B 97, 104413 (2018).

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