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产品介绍
直流溅射等离子实验装置 型号:ZH5502 | 货号:ZH5502 |
产品简介 装置包括可拆卸的溅射腔体、溅射靶台、真空抽气系统、测量系统、进气系统等部分组成。 本实验采用同轴二溅射结构,在真空室内以沉积材料为阴,加工样品为阳,工作期间两间加直流电压引起放电,放电气体中的离子被加速轰击靶面,溅射粒子沉积在烧结车扫描测温云台基片表面成膜。 可以完成光学薄膜材料的制备及其光学特性的测量、金属薄膜的制备等实验。通过这些实验可让实验者理解直流溅射原理,掌握直流溅射薄膜材料的方法。 主要特点: 1 溅射靶台和溅射靶距离可调节,研究在不同距离时对薄膜溅射的影响; 2 溅射基片可进行加热,加热温度可控,研究基片温度对薄膜溅射的影响; 3 溅射气压、溅射气源流量可调节,研究不同气压、气源流量对薄膜溅射的影响; 4 反应腔体采用石英玻璃管,可直观地观察到溅射现象; 5 工作气体可调表面粗糙度样板节换,并可多路气体混合工作。 主要参数及性能: 1、溅射腔体外形尺寸:φ140mm×150mm; 2、溅射靶台:φ70mm×20mm; 3、溅射靶台和溅射靶可调距离:10~50mm; 4、基片加热温度可控范围:室温~80℃; 5、溅射气压可调范围:10Pa~200Pa; 6、溅射电压:0V~1000V连续可调; 7、溅射电流:0~200mA可测; 8、气源流量可控范围:6~60ml/min;25~250ml/min; 9、供电电源:AC220V,50HZ; 10、整机功率:1.5KW。 www.ghitest.com |