A-Z靶材系列 参考价：面议
合肥科晶公司专业供应各种陶瓷靶材，金属靶材，合金靶材，单晶靶材，品种齐全，质量保证
石墨烯薄膜 参考价：面议
石墨烯薄膜
铜基底石墨烯膜 参考价：面议
铜基底石墨烯膜
石英基底石墨烯膜 参考价：面议
石英基底石墨烯
PET基底石墨烯膜 参考价：面议
PET基底石墨烯膜
硅基底石墨烯膜 参考价：面议
硅基底石墨烯膜
PET薄膜 参考价：面议
PET薄膜
CdZnTe晶体基片 参考价：面议
CdZnTe晶体是一种闪烁矿结构的连续固溶体，改变Zn的组分，其晶格常数在0.6100 -0.6482urn之间连续可调，能与不同波段的HgCdTe晶格常数精确...
CaCO3晶体基片 参考价：面议
碳酸钙（CaCo3）又称方解石是一种非单轴晶体，双折射大，光谱传播范围宽，呈一定大小的菱形状，适用于可见和近红外偏振材料。科晶公司严格挑选自然生长的碳酸钙原材料...
Al2O3 晶体基片 参考价：面议
Al2O3单晶（Sapphire,又称白宝石，蓝宝石）有着很好的热特性，*的电气特性和介电特性，并且防化学腐蚀，它耐高温，导热好，硬度高，透红外，化学稳定性好。...
Al2O3陶瓷基片 参考价：面议
Al2O3陶瓷基片
AlN薄膜 参考价：面议
AllN Epitxial范本saphhire提出了氢化物气相外延（HVPE）的方法。氮化铝薄膜又是成本效益的方法，用来取代氮化铝单晶衬底。科晶真诚欢迎您的垂询...
A-Z系列晶体列表 参考价：面议
A-Z系列晶体列表
双刮刀微米级可调制膜器-宽度150mm--Se-KTQ-150D 参考价：面议
Se-KTQ-150D是一款双刮刀的可调制膜器，由于有两个刮刀所以涂覆效果会更加均匀。操作者可通过千分尺来调节刮刀与所涂覆平面之间的间隙，此工具特别适合实验室制...
微米级可调制膜器-宽度100mm--Se-KTQ-100 参考价：面议
可调制膜器-这是一款*的湿法制膜工具，可通过千分尺调节制膜厚度。操作者可通过千分尺来调节刮刀与所涂覆平面之间的间隙，此工具特别适合实验室制作电池电极，陶瓷膜前期...
宽度可调微米级可调制膜器-150mm--Se-KTQ-150A 参考价：面议
可调制膜器这是一款*的湿法制膜工具，可通过千分尺调节制膜厚度。操作者可通过千分尺来调节刮刀与所涂覆平面之间的间隙，此工具特别适合实验室制作电池电极，陶瓷膜前期的...
2单靶直流磁控溅射仪--VTC-16-SM 参考价：面议
VTC-16-SM是一款桌面式等离子磁控溅射镀膜仪，包含一个2英寸水冷靶头和可旋转样品台，外形小巧，性价比高，是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备，可选配各种金属靶...
6工位小型连续离子层反应吸附（SILAR）吸附系统--PTL-SC-6-LD 参考价：面议
PTL-SC-6是一款自动连续离子层吸收反应（SIAR）制膜系统，与手动操作相比，避免了实验中的人为误差，因为SIAR制膜法需多次对样品进行重复提拉，所以手动很...
真空立式淬火炉--OTF-1200X-4-VTQ 参考价：面议
OTF-1200X-4-VTQ是立式可开启真空管式淬火炉，石英管直径100mm，配有一个密封的液体容器用于样品淬火，温度从Z高1200度到冰水或油，可用于研究材...
1500℃真空热压炉--OTF-1500X-VHP4 参考价：面议
OTF-1500X-VHP4是一款真空热压机，可对材料在真空（或气氛保护）及高温的环境下进行加压，如把粉末压成块状，或将多层晶片压合在一起（扩散实验）。此款仪器...
小型磁力滑动管式炉--OTF-1200X-S-DVD 参考价：面议
OTF-1200X-S-DVD是一款靠磁铁推动坩埚移动的管式炉。其炉管直径为50mm,Z高工作温度为1200℃。本公司设计此款管式炉主要是为了在各种气氛环境下用...
双温区立式高温高压炉--OTF-1200X-II-HPV 参考价：面议
OTF-1200X-II-HPV是一款双温区立式高温高压炉，炉管采用镍基合金钢管制作，具有较高的蠕变强度和抗氧化性。炉管可承受的Z高温度为1100℃（在此温度下...
磁悬浮感应熔炼炉 参考价：面议
FMF-10磁悬浮感应熔炼炉是一款小型真空悬浮感应熔炼系统，特别适合与磁性材料和金属合金的探索。成套设备中包括一10KW的高频感应熔炼炉，使样品熔融（Z大熔样品...
小型双炉体滑动管式炉 参考价：面议
OTF-1200X-S2-50SL是一款小型的双炉体滑动管式炉，炉管为Φ50×1400mm的石英管，并配有不锈钢密封法兰，仪器Z高温度可以达到...
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