高温真空气氛炉（四代） 返回列表页

　　一、主要用途：
      高温真空气氛炉（四代）设计温度可达1700℃，专门设计用于对材料在惰性气氛及氧化气氛环境下进行烧结、热处理等工艺，适用于特种陶瓷、电子陶瓷、结构陶瓷、功能陶瓷、压电陶瓷、磁性材料、粉末冶金、稀土材料、PTC材料、三基色荧光粉、抛光粉、金属等材料各种热处理工艺。该设备外形美观，结构合理，使用方便，是高校、科研院所、工矿企业做粉末烧结、陶瓷烧结、高温实验、质量检测用的理想产品。

　　二、主要特点：

　　1、具备完善的报警功能，更先进的安全连锁保护系统；

　　2、多重安全防暴措施，多种气体排放方式确保良好的工作环境；

　　3、完善的气氛控制系统，满足各种工艺需要；

　　4、高性能优质电气元件保证设备长期运行的稳定可靠性；

　　5、低负荷加热器，可有效提高设备的使用寿命；

　　三、高温真空气氛炉（四代）技术参数：