| EMS150T的机壳是整体成型的，结构坚固耐用，配有气冷的70L/S的涡轮分子泵，自动进气控制保证了溅射期间*的真空水平，真空腔室直径为165mm并带有防爆装置。EMS150T具有“真空闭锁”功能，可在设备不工作时维持腔室的真空度，从而保证高真空的性能。 EMS150T系列全自动高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪给用户以类似傻瓜相机的简单操作、*的镀膜质量和对熟手/新手都很理想的用户界面，让用户真正领略的镀膜品质！ 根据不同的应用方向，EMS150T细分为三个型号： EMS150TS：高分辨率溅射镀膜仪High Resolution Turbomolecular Pumped Sputter Coater，可溅射易氧化和不易氧化金属，可选各种溅射靶材，包括场发射电镜常用的铱和鉻。 EMS150TE：高真空镀碳仪，可制作高稳定的碳膜和表面覆形膜，是TEM应用的选择。 EMS150TES：集合了离子溅射和热蒸镀两种真空沉积镀膜方式，镀膜头可在几秒内快速更换，只能逻辑系统自动识别所装的镀膜头类型，并显示相应的操作模式。 注：上述各型号都可配备如下可选的附件：金属蒸镀、碳丝蒸镀、膜厚测量等 触摸屏控制： EMS150T操作十分简单，直观的触摸屏，即使zui不熟练的操作者也可以自由操作，同时可方便的键入和存储数据。为了方便使用，设备中已经预存一些了典型的溅射和蒸发镀膜参数资料。 镀膜插入头选项： 具有一系列可互换、即插即用的镀膜插入头 溅射插入头适用于易氧化和不易氧化金属材料，直径57mmX0.3mm厚鉻靶为标准靶材 可用另外的溅射插入头来快速更换镀膜材料（仅为TS和TES型号） 适用于3.05mm碳棒蒸发插入头 适用于6.15mm碳棒蒸发头，建议使用3.05mm直径的碳棒，它们更容易控制、更经济 碳丝蒸发插入头 金属蒸发和光阑洁净头，包括向上蒸发或向下蒸发（仅为TE和TES型号） 样品台选项 EMS150T具有各种易更换的样品台，drop-in落入式设计具高度可调（除旋转行星台）。 标准配置为旋转台, 直径为50mm 可预设倾斜角度的旋转台（可选） 可变角度旋转行星台（可选） 可用于4〞晶圆的平面旋转台（可选） 显微镜载玻片样品台（可选） 其它选项 用于高样品的加高腔室 膜厚监测器（FTM） 用于测量低和高真空的全范围真空计 特点和优点: 金属溅射或碳蒸发或两者兼备：一体化设计，节约空间 精细颗粒溅射：高分辨率场发射扫描电镜（FE-SEM）制样的精细镀膜应用 涡轮分子泵高真空系统：允许不氧化贵金属和易氧化其它金属靶材的溅射镀膜，大大拓宽了可溅射靶材范围，既适合普通SEM、高分辨率FE-SEM镀膜制样应用，也为许多薄膜应用等材料科研领域提供理想的镀膜平台 全自动触摸屏控制：快速数据输入，简单操作 可储存多个客户自定义镀膜方案：对多用户实验室十分理想 与镀膜过程和镀膜材料相匹配的预编程自动真空控制 精细的厚度控制：使用膜厚监控选项 “智能”式系统识别：自动感知用户所装的插入式镀膜头的类型 高真空碳蒸镀：对SEM和TEM镀碳膜应用非常理想 蒸发电流波形控制 Drop-in落入式快换样品台（标配旋转台） 真空闭锁功能：可让工作腔室处于真空状态，改善后续真空效果，或在真空条件下保存样品 镀制厚膜能力：一次真空条件下的溅射时间可长达60分钟（材料科研领域的应用） 人体工程学设计的整体成型机壳：易维护和易拆装 带有本地FTP服务器连接的以太网端口：简单的程序更新 设有功率因素补偿，有效利用电能，降低运行成本 符合当前电器法规（CE认证） EMS150T仪器参数： | 仪器尺寸 | 585mm宽*470mm*410mm高（总高650mm） | | 重量 | 33.4KG | | 工作腔室 | 150mm（内径）*127mm（高）硼硅酸盐玻璃腔室，并带整体安全防护罩 | | 触摸屏用户界面 | 带有触摸按钮的全图像界面，包含多达十个镀膜程序，可提醒何时需要维护 | | 工作腔室 | 150mm（内径）*127mm（高）硼硅酸盐玻璃腔室，并带整体安全防护罩 | | 样品台 | 转速为8-20rpm的旋转台 | | 真空系统 | 涡轮子分子泵：带有内部空气却的涡轮分子泵，抽速为70L/s 旋转机械泵：抽速为50L/m的两级旋转机械泵，带有油污过滤器 | | 真空测量 | 皮拉尼真空计作为标配 | | 极限真空度 | 10-5mbar两级 | | 电源需求 | 90-250V~50/60Hz 1400VA（ 包括旋转机械泵电压240V） | | 气体 | 溅射工作气体氩气，99.999%（TS和TES版本）；氮气，放气破真空气体（可选） | | 金属蒸发和光阑清洁头 | 用于源自钨丝篮或舟的金属热蒸发。可配备一个标准钼舟用于清洁SEM或TEM光阑 | | 碳蒸发 | 稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发，确保源自碳棒或碳丝的可重复蒸碳 | | 电流脉冲 | 1-90安培 | | 溅射 | 0-150mA。可预设膜厚（需FTM选项）或使用内置定时器 | | 溅射工作真空范围 | 5*10-3到5*10-1mbar | | 溅射靶材和碳耗材供应 | EMS150TS和EMS150TES标配铬靶，但可选用的其它靶材范围很宽，包括那些广泛用于SEM制样的靶材，如：Au金靶，Au/pd金钯，Pt铂靶，和Iridium铱靶。对非SEM应用，可选用的靶材包括：AI铝，Ta钽，ITO氧化铟锡，Fe铁，W钨，Ti钛，等等：碳制品包括高纯度碳 | | 
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