特种材料溅射靶材

特种材料溅射靶材，FHR公司成立于1991年，专注于薄膜技术的研发和薄膜设备的设计制造，前身是东德的军工企业，在真空镀膜设备领域已经有几十年的经验，现为Centrotherm international AG旗下薄膜真空设备生产公司。公司坐落于德国美丽的城市德累斯顿，与德国著名的研究机构和大学有着密切的合作关系，使公司技术不断创新。

拥有自主研发制造的*PVD、PECVD镀膜设备，PE、RIE等离子刻蚀设备，FLA闪光灯退火设备，以及代表新一代半导体、微电子、纳米薄膜沉积技术的ALD原子层沉积技术，技术的高密度等离子体ICP源、磁控溅射源，气路控制系统，在线工艺检测控制系统，高性能真空零部件等。

为客户提供标准的生产、研发设备的同时，也可以为客户量身定做设备。拥有丰富的设备制作及工艺经验使FHR公司在市场上拥有很高的声誉。

公司取得了巨大的成功，客户涉及各个领域包括西门子、阿尔卡特宇航中心、三星、欧洲航空航天局、美国NASA、欧司朗、施华洛士奇、保时捷、慕尼黑大学、德国弗劳恩霍夫研究院、开姆尼茨大学等军工、民用、研究、生产企业和部门。FHR公司客户涉及各个领域包括西门子、阿尔 卡特宇航中心、欧洲航空航天局、美国 NASA、欧司朗、施华洛士奇、保时捷、慕尼黑 大学、德国弗劳恩霍夫研究院、开姆尼兹大学等军工、民用、研究、生产企业和部门。 中国客户包括：中电科技集团 14 所、18 所、55 所，航天科技 811 所、771 所，中科院 纳米所、电子科大、重庆大学、上海交大等。

提供德国制造特种材料靶材，包括平面靶和旋转靶，适用于半导体、微电子等行业的磁控溅射设备

 特种材料溅射靶材