上海伯东代理KRI 考夫曼离子源 KDC 10
具体成交价以合同协议为准
- 公司名称 伯东企业（上海）有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型号
- 产地
- 厂商性质 代理商
- 更新时间 2023/5/8 10:02:31
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| 供货周期 | 一个月以上 | 规格 | KDC 10 |
|---|---|---|---|
| 货号 | KDC 10 | 主要用途 | 真空镀膜 |
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准
KRI 考夫曼离子源 KDC 10
上海伯东代理美国* KRI 考夫曼离子源 KDC 10: 考夫曼型离子源 Gridded 系列小型号的离子源. 适用于集成在小型的真空设备中, 例如预清洗, 离子溅射, 离子蚀刻. 在<1000eV 低能量, 通 Ar 氩气时离子蚀刻的能力显著提高.KDC 10 离子源低损伤, 宽束设计, 低成本等优点广泛应用在显微镜领域, 标准配置下 KDC 10 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 10mA.
KRI 考夫曼离子源 KDC 10 技术参数
型号 | KDC 10 |
供电 | DC magnetic confinement |
- 阴极灯丝 | 1 |
- 阳极电压 | 0-100V DC |
- 栅极直径 | 1cm |
中和器 | 灯丝 |
电源控制 | KSC 1202 |
配置 | - |
- 阴极中和器 | Filament, Sidewinder Filament 或LFN 1000 |
- 架构 | 移动或快速法兰 |
- 高度 | 4.5' |
- 直径 | 1.52' |
- 离子束 | 集中 |
-加工材料 | 金属 |
-工艺气体 | 惰性 |
-安装距离 | 2-12” |
- 自动控制 | 控制4种气体 |
KRI 考夫曼离子源 KDC 10 应用领域
离子清洗, 显微镜抛光 IBP
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜) IBAD
表面改性, 激活 SM
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE
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