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上海伯东代理霍尔离子源 eH 1000

具体成交价以合同协议为准

联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


上海伯东是德国 Pfeiffer 真空设备, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机, 美国 Gel-Pak 芯片包装盒代理商 .我们真诚期待与您的合作!

 

 

质谱分析仪,氦质谱检漏仪,分子泵,离子源,真空阀门

供货周期 一个月以上 规格 eH 1000
货号 eH 1000 主要用途 真空镀膜

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准

KRI 霍尔离子源 eH 1000
上海伯东代理美国* KRI 霍尔离子源 eH 1000 高效气体利用, 低成本设计提供高离子电流, 特别适合中型真空系统. 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.
尺寸: 直径= 5.7“ 高= 5.5”
放电电压 / 电流: 50-300V / 10A
操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体

KRI 霍尔离子源 eH 1000 特性:
可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时, 大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极
宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率
多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便; 无需水冷
高效的等离子转换和稳定的功率控制

KRI 霍尔离子源 eH 1000 技术参数:

型号

eH1000 / eH1000L / eH1000x02/ eH1000LEHO

供电

DC magnetic confinement

- 电压

40-300V VDC

- 离子源直径

~ 5 cm

- 阳极结构

模块化

电源控制

eHx-30010A

配置

-

- 阴极中和器

Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode

- 离子束发散角度

> 45° (hwhm)

- 阳极

标准或 Grooved

- 水冷

前板水冷

- 底座

移动或快接法兰

- 高度

4.0'

- 直径

5.7'

- 加工材料

金属
电介质
半导体

- 工艺气体

Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

- 安装距离

10-36”

- 自动控制

控制4种气体

* 可选: 可调角度的支架; Sidewinder

KRI 霍尔离子源 eH 1000 应用领域:
离子辅助镀膜 IAD
预清洗 Load lock preclean
预清洗 In-situ preclean
Direct Deposition
Surface Modification
Low-energy etching
III-V Semiconductors
Polymer Substrates


鉴于客户信息保密, 若您需要进一步的了解详细信息, 请联络上海伯东罗先生

上海伯东版权所有, 翻拷必究!




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