Tystar.TYTAN 实验室用低压化学气相沉积设备
具体成交价以合同协议为准
- 公司名称 北京朗铭润德光电科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型号 Tystar.TYTAN
- 产地
- 厂商性质 生产厂家
- 更新时间 2021/4/28 15:02:01
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| 产地类别 | 进口 | 应用领域 | 环保,化工,能源,电子,汽车 |
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LPCVD/常压CVD 实验室用低压化学气相沉积设备详情：
一、关键设计和性能特性包括:
- 创新性热能设计
- 占地空间小
- 优良的工艺均匀性
- 设备开机率优于 95%
- 庞大的客户网络
- 专家服务
- 节省(50%)电能和气体消耗
- 便于保养和服务
二、常压工艺：
- 氧化工艺（湿法，干法）
- 固态源扩散（BN,P2O5）
- 液态源扩散（POCl3,BBr3）
- 退火
- 纳米材料
- 烧结+合金
三、低压化学气相沉积和工艺：
- 掺杂多晶硅和非晶硅 LPCVD
- 多晶硅 LPCVD（使用硅烷或乙硅烷）
- 低温氧化硅，掺杂性低温氧化硅，硼磷硅玻璃，硼硅玻璃和磷硅玻璃LPCVD
- 高温氧化硅LPCVD
- TEOS氧化硅LPCVD
- 氮化硅LPCVD（低应力型，标准型）
- 硅锗（Si-Ge）LPCVD
- 掺氧半绝缘多晶硅，碳化硅
- 外延硅
- 纳米材料LPCVD
四、关键设计和性能特点：
- 创新性热能设计
- 占地空间小
- 优良的工艺均匀性
- 设备开机率优于95%
- 庞大的客户网络
- 专家服务
- 节省（50%）电能和气体消耗
- 便于保养和服务
TYTAN炉系统对照表：
| 炉系统型号 | 1600 | 1800 | 3600 | 3800 | 4600 |
| 衬底尺寸 | 6’’ | 8’’ | 6’’ | 8’’ | 6’’ |
| 炉管数量 | 1 TUBE | 1 TUBE | ≤3 TUBES | ≤3 TUBES | ≤4 TUBES |
| 单管产能 | 100 ATM 50 LPCVD | 100 ATM 50 LPCVD | 100 ATM 50 LPCVD | 100 ATM 50 LPCVD | 100 ATM 50 LPCVD |
| 恒温区长度 | 18’’/457 mm | 18’’/457 mm | 18’’/457 mm | 18’’/457 mm | 18’’/457 mm |
| 设备尺寸 (长度, 高度, 宽度) | L 63’’/1600 mm | L 63’’/1600 mm | L 126’’/3200 mm | L 134’’/3404 mm | L 127’’/3226 mm |
| H 54’’/1372mm | H 54’’/1372mm | H 69’’/1753mm | H 82’’/2083mm | H 82’’/2083mm | |
| D 30’’/762 mm | D 30’’/762 mm | D 30’’/762 mm | D 30’’/762 mm | D 30’’/762 mm | |
| *大消耗电功率 | 18 KVA | 28 KVA | 40 KVA | 45 KVA | 50 KVA |
实验室用低压化学气相沉积设备
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