UTA-IA 无掩膜光刻机
具体成交价以合同协议为准
- 公司名称 北京欧屹科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型号 UTA-IA
- 产地 日本
- 厂商性质 代理商
- 更新时间 2024/3/13 13:23:30
- 访问次数 2409
联系方式:鲁工 王工13910937780,17600738803 查看联系方式
联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!
产地类别 | 进口 | 应用领域 | 化工,石油,电子 |
---|
无掩膜光刻机装置概述:
显微镜LED曝光单元UTA系列是不需要掩模的用于光刻的图案投影曝光装置。
使用金相显微镜盒LED光源DLP投影仪,将具有机微米分辨率的任意图案投影到涂有抗蚀剂的基板上进行曝光。
图案可以在PC上自由创建。
因为可以在普通的室内环境中在各种大小盒形状的单晶薄片上形成电极,所以它比电子束光刻便宜且简单,不需要制造昂贵的电极图案掩膜。
无掩膜光刻机应用:
薄膜FET和霍尔效应测量样品的电极形成。
从石墨烯/钼原石中剥离电极形成并评估其特性。
研发应用的图案形成。
参数:
由于显微镜和DLP的结合,可以用很低的成本来构建系统。
易于使用的软件可以轻松的创建曝光图案。
通过物镜放大倍率图案,可以进行大范围的批量曝光。
可以连接到您自己的显微镜上(选项)。
分辨率在微米级。
曝光范围:大2.5mm×1.5mm 小100um×60um。
可以连接到您自己的显微镜上(选项)。
分辨率在微米级。
曝光范围:大2.5mm×1.5mm 小100um×60um。