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化工仪器网>产品展厅>物理特性分析仪器>测厚仪>白光干涉测厚仪>F-50、F-60 膜厚测量仪——自动厚度测绘系统

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F-50、F-60 膜厚测量仪——自动厚度测绘系统

参考价 ¥ 16
订货量 ≥1
具体成交价以合同协议为准

联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


岱美有限公司(下面简称岱美)成立于1989年,是一间拥有多年经验的性高科技设备分销商,主要为半导体、MEMs、光通讯、数据存储、高校及研发中心提供各类测量设备、工序设备以及相应的技术支持,并与一些重要的客户建立了*合作的关系。

自1989年创立至今,岱美的产品以及各类服务、解决方案广泛地运用于中国大陆、香港、中国台湾、新加坡、泰国、马来西亚、菲律宾等地区。
主要产品包括有:EVG晶圆键合设备、EVG纳米压印设备、EVG紫外光刻机、EVG涂胶显影机、EVG硅片清洗机、EVG超薄晶圆处理设备、压力计、流量计、等离子电源、非接触式光学三坐标测量仪、薄膜厚度检测仪、电容式位移传感器、振动样品磁强计 (VSM)、粗糙度检测仪、电镜 (SEM)、透镜 (TEM)、原子力显微镜 (AFM)、防振台系统、三维原子探针材料分析仪 (Atom Probe)、激光干涉仪、平面/球面大口径动态激光干涉仪、氦质谱检漏仪、紫外线固化仪、碳纳米管生长设备等。
岱美中国拥有八十多名训练有素的工程师,能够为各地区用户作出快捷、可靠的技术支持和维修服务;为确保他们的专业知识得以更新及并适应新的要求,岱美定期委派工程师前往海外接受专项技术训练,务求为顾客提供更高质素的售后服务及技术支持。
总部位于中国香港的岱美分别在新加坡、泰国、中国台湾、马来西亚、菲律宾及中国大陆(上海、东莞及北京)设立了分公司及办事处,以带给客户更快捷更的销售及维修服务。
我们真诚希望和业界的用户互相合作,共同发展!!
     

膜厚测量仪、隔震台、磁强计

产地类别 进口 价格区间 50万-100万
应用领域 化工,能源,电子,航天,电气

*代理商——岱美仪器技术服务(上海)有限公司

 

F50膜厚测量仪——自动厚度测绘系统

 

自动膜厚映射

Filmetrics F50系列产品可以每秒绘制两个点的薄膜厚度。电动R-Theta载物台可以接受标准和定制的卡盘,用于直径大为450mm的样品。(这是在我们的生产系统中执行数百万次测量的同一寿命阶段!)

地图图案可以是极性,矩形或线性的,也可以创建自己的样式,而对测量点的数量没有限制。提供了数十种预定义的地图图案。F50膜厚映射系统连接到Windows®计算机的USB端口,可以在几分钟内完成设置。

不同的F50仪器的主要区别在于厚度和波长范围。标准F50是非常受欢迎的。通常,较短的波长(例如F50-UV)用于测量较薄的膜,而较长的波长则可以测量较厚,更粗糙和更不透明的膜。

F54 膜厚测量仪——自动厚度测绘系统

自动膜厚映射

借助F54*的光谱反射系统,可以快速轻松地绘制直径大为450毫米的样品的薄膜厚度。电动r-theta平台自动移动到选定的测量点,并提供每秒2个点的速度测量。

从数十种预定义的极性,矩形或线性地图图案中选择一种,或创建自己的不受限制的测量点数量。整个桌面系统只需几分钟即可完成设置,任何具有基本计算机技能的人都可以使用。

F54膜厚映射系统连接到Windows®计算机的USB端口,可以在几分钟内完成设置。

不同仪器的主要区别在于厚度和波长范围。通常,较短的波长(例如F54-UV)用于测量较薄的膜,而较长的波长则可以测量较厚,更粗糙和更不透明的膜。

F60系列膜厚测量仪——自动厚度测绘系统

 

用于生产环境的自动厚度映射

Filmetrics F60-t系列像我们的F50产品一样绘制膜的厚度和折射率,但是它还包含许多专门针对生产环境的功能。其中包括自动找到缺口,自动机载基线,带运动互锁功能的封闭式测量台以及带有预装软件的工业计算机。

不同的F60-t仪器的主要区别在于厚度和波长范围。通常,需要较短的波长(例如F60-t-UV)来测量较薄的薄膜,而较长的波长则可以测量较厚,更粗糙和更不透明的薄膜

F60-t P1.png

 

F60-t P2.png

 

 

岱美有限公司与Filmetrics从03年开始的合作关系,单是国内16年间已卖出超过600台不同型号仪器,在国内有多个服务处均有工程师,保证能为客户提供及时的服务。

Dymek logo.png            Filmetrics Logo.png

经济实惠的薄膜厚度测量系统的销售*,让复杂测量变得简单

 

 

产品简介:

美国 Filmetrics 公司生产的薄膜厚度测量仪利用反射干涉的原理进行无损测量,可测量薄膜厚度及光学常数。测量精度达到埃级的分辩率,测量迅速,操作简单,界面友好,是目前市场上jiju性价比的薄膜厚度测量设备。设备光谱测量范围从近红外到紫外线,波长范围从200nm到1700nm可选。凡是光滑的,透明或半透明的和所有半导体膜层都可以测量。其可测量薄膜厚度在 1nm 到 13mm 之间,测量精度高达1 埃,测量稳定性高达 0.7 埃,测量时间只需一到二秒, 并有手动及自动机型可选。可应用领域包括:生物医学(Biomedical), 液晶显示(Displays), 硬涂层(Hard coats), 金属膜(Metal), 眼镜涂层(Ophthalmic) , 聚对二甲笨(Parylene), 电路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半导体材料(Semiconductors) , 太阳光伏(Solar photovoltaics), 真空镀层(Vacuum Coatings), 圈筒检查(Web inspection applications)等。

 

 

应用:

通过Filmetrics膜厚测量仪新反射式光谱测量技术,多达3-4层透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在数秒钟测得。其应用广泛,例如:

半导体制造

液晶显示器

生物医疗元件

微机电系统

光学镀膜

Photoresist

光刻胶

Oxides

氧化物

Nitrides

氮化物

SOI

绝缘体上硅

Cell Gaps液晶间隙

Polyimide

聚酰亚胺保护膜

ITO

纳米铟锡金属氧化物

Polymer/Parylene   Layers

 聚合物/聚对二甲苯涂层

Membrane/Balloon Wall   Thickness

生物膜/气泡球厚度

Drug-Coated Stent

药物涂层支架

Silicon Membranes

硅膜

AlN/ZnO Thin Film Filters

氮化铝/氧化锌薄膜滤镜

Hardness Coatings

硬镀膜

Anti-reflection Coatings

增透镀膜

Filters滤光

 

 

膜层实例:

几乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能测。包括:

SiO2(二氧化硅)           SiNx(氮化硅)                    DLC(类金刚石碳)

Photoresist(光刻胶)     Polyer Layers(高分子聚合物层)      Polymide(聚酰亚胺)

Polysilicon(多晶硅)      Amorphous Silicon(非晶硅)

 

 基底实例:

对于厚度测量,大多数情况下所要求的只是一块光滑、反射的基底。对于光学常数测量,需要一块平整的镜面反射基底;如果基底是透明的,基底背面需要进行处理使之不能反射。

包括:

Silicon(硅)         Glass(玻璃)               Aluminum(铝)

Gas(砷化镓)        Steel(钢)                 Polycarbonate(聚碳酸脂)

Polymer Films(高分子聚合物膜)

产品应用,在可测样品基底上有了*的飞跃:

●几乎所有材料表面上的镀膜都可以测量,即使是药片,木材或纸张等粗糙的非透明基底。

●玻璃或塑料的板材、管道和容器。

●光学镜头和眼科镜片。

 

服务:

免费样机演示及测量

轻轻一按即可实现测量!

请联系我们,专业的应用工程师将为你演示它是如此的方便!

优势:

*     提供在线诊断

*     配送独立的软件包

*     精通的历史功能即程序数据可存储、复制及策划结果

*     免费软件升级

 

 

               thickness measurement yuanli.png

 

极易操作、快速、准确、机身轻巧及价格便宜为其主要优点,Filmetrics提供以下型号以供选择:

一、单点测量系统(从 1nm 到 13mm 单层及多层厚度测量)

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F20

*销非常好的薄膜测量系统,有各种不同附件和波长(由220nm紫外线区 至1700nm近红外线区)覆盖范围,为任意携带型,可以实现反射率、膜厚、n、k值测量。

F3-sX

能测量半导体与介电层薄膜厚度到3毫米, 例如硅片

F10-ARc

可测量镜片和其他曲面的反射率,用于涂层厚度测量

F10-HC

测量硬涂层和防雾层厚度和折射率,聚碳酸酯硬涂层在汽车等行业应用普通

F3-CS

提供微小视野及微小样品测量,USB连接电脑即可使用,携带方便

F10-AR

测量眼科镜头和其他弯曲表面的反射率。还可以提供测量硬涂层厚度和透射率的可选件

F10-RT

可同时测量反射率和透射率,也可选配测量膜层厚度和折射率。普遍应用于真空涂层领域

F20实现反射率跟穿透率的同时测量,特殊光源设计特别适用于透明基底样品的测量。

 

 

二、F40 系列- 基于微米(显微)级别光斑尺寸厚度测量

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F40

可以固定到您的显微镜上来测量小至 1um 光斑点的厚度和折射率

这型号安裝在任何显微镜外,可提供小到1um光點(100倍放大倍數)來測量微小樣品。

 

三、F50/F60系列- 表面的自动测绘

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F50

为我们的F20系列产品增添自动测绘能力,以每秒钟 2 个点的快速测绘厚度和折射率

这型号配备全自动XY工作台,由8"x8"18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通过快速扫瞄功能,可取得整片样品厚度分布情况(mapping)

F54

能以每秒测量两个点的速度快速的测绘薄膜厚度,样品直径可达450毫米

F60-t

满足生产环境的台式测绘系统,包括自动基准确定、凹槽定位、全封闭测量平台以及其它装置

 

四、F30 系列- 在线厚度监控仪器

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F30

检测金属有机化学气相沉积(MOCVD)、阴极溅镀和其他沉积工艺中监控反射率、厚度和沉积率

这型号可安装在任何真空镀膜机腔体外的窗口。可实时监控长晶速度、实时提供膜厚、nk值。并可切定某一波长或固定测量时间间距。更可加装至三个探头,同时测量三个样品,具紫外线区或标准波长可供选择。

F32

实时监控薄膜顶部和底部的反射率和沉积速率

 

 



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