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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>光刻及涂胶显影设备>匀胶机> VTC-200PV真空旋转涂膜机

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VTC-200PV真空旋转涂膜机

具体成交价以合同协议为准

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联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


  沈阳科晶立足国内市场实际情况,以提供Z为实用的产品为己任。产品的质量、精度在向国外企业看齐的基础上,产品的价格定位却仅仅是其几分之一。性价比不仅吸引了众多国内客户,而且令挑剔的外国客商也称赞不已,产品远销于印度、马来西亚、土耳其、波兰、突尼斯、澳大利亚等国家,并大量出口于美国。

  沈阳科晶为了更好地服务客户,专门设立了开放式专业实验室,配备了优秀的专业技术人员。在这里,不仅可以提供亲身的产品体验环境,而且还可得到专业人员的操作指导。开设以来,制作的样品达上千件,接待来访客参观户百余次,其中包括多次外国友人的来访。在此,沈阳科晶全体员工诚挚地欢迎您的到来,并希望您能提出宝贵的意见与建议。

  沈阳科晶一路走过的历程,是为我国材料研究事业全力贡献的历程,是以实际行动将自己打造成国内材料分析设备品牌的历程,是与国外同行不断缩小差距的历程,是与广大客户相扶相持的成长历程。虽一路充满坎坷与荆棘,但坚持不懈的沈阳科晶人仍全力以赴的前行。秉承这份坚持,相信在不久的将来,沈阳科晶也将会成为市场上专业的、杰出的材料分析设备品牌,沈阳科晶的明天会更加灿烂辉煌。

 

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欢迎来到沈阳科晶,我们是国内实验室样品制备设备领域的专家!

 

 

 

 

 

 

 

 

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产品简介:VTC-200PV真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。本机可以对涂膜机腔室进行抽真空,使样品在*真空的状态下进行涂膜,适用于在空气中易氧化变质的薄膜材料的使用。工作时利用真空盘吸附的方式将样品固定在载样盘上,该设备可储存12组程序,每组程序包含6个运行阶段。不同运行阶段设备转数不同,使设备缓慢提升速度限速度,有利于薄膜材料在样品表面均匀成膜,且不会过多浪费,节约材料。具有操作简单、清理方便,体积小巧等优点,主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的生成过程。

产品名称

VTC-200PV真空旋转涂膜机

产品型号

VTC-200PV

安装条件

本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:设备配有进出水口

2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地

3、气:不需要

4、工作台:尺寸600mm×600mm×700mm,承重50kg以上

5、通风装置:需要

主要特点

1、设有12组程序,每组包含6个运行阶段,每段增减速率设置范围:100—2000rpm/s,每段时间范围:0—60s。

2、样品可采用真空吸附的方式进行固定,也可采用粘结或夹持的方式进行固定,操作简便。

3、吸盘真空度可以达到-0.08MPa。

4、使用定位工具可将样件很容易地放在中心位置,以减少偏心而造成的震动或飞片。

5、根据样件规格可以配用不同的吸盘,且更换方便简单。

6、电机采用直流无刷电机,无级调速,可靠性高,适应性强,维修与保养简单,噪音低,震动小,运转平稳,启动快速稳定,加速后运行平稳,可以保证涂层厚度的一致性和均匀性。

7、当用真空吸附方式固定样品时采用无油双杠真空泵,体积小巧、结构简单、操作容易、维护方便、不会污染环境等优点。

8、可在惰性气体气氛下进行涂层

9、可在真空状态下进行涂层,此时需要用粘接基片或夹持基片的方式对被涂基片进行固定。

10、腔体通体采用聚丙烯材质,使用寿命更长,提高耐化学腐蚀性和优异的抗应力开裂性能。

11、全英文操作系统。

12、具有开盖保护功能,当涂膜过程中或涂膜结束时打开上盖后机器立刻迅速减速直到停止.

13、控制器采用控制箱,液晶显示数值,更直观可靠。

技术参数

1、功率:350W/24V

2、转速:500rpm-6000rpm

3、时间:1s-60s

4、腔体真空度可达1Torr(VRD-8机械泵连续工作)

产品规格

尺寸:Ø250mm×290mm;重量:25kg

标准配件

1

真空吸盘

1个

2

夹持吸盘

1个

3

无油真空泵

1台

可选配件

VRD-16机械泵

移液器

其它尺寸的真空吸盘



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