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VTC-600-2HD 双靶磁控溅射仪

具体成交价以合同协议为准

联系方式:朱沫浥查看联系方式

联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


  合肥科晶材料技术有限公司成立于1997年,是由一群来自麻省理工学院和加州大学伯克利分校的材料研究人员创办的美国MTI公司与中科院合肥物质科学研究院合资兴办的高新技术企业。主要生产氧化物晶体(A--Z)和材料实验室成套设备:包括“混料-压料-烧料”(混料机、压片机、箱式炉、真空管式炉)以及“定向-切割-研磨-抛光”(X射线定向仪、低速外圆锯、金刚石线切割机、自动研磨、抛光机)。公司自主研发生产上百款不同规格尺寸、温度、高温高压及快速升温等产品,其中包括:箱式炉、气氛炉、管式炉、井式炉、RTP快速升温炉、高温高压炉、镀膜机、清洗剂及新能源锂离子电池研发等相关实验室设备。现已成为氧化物晶体(A--Z)的主要制造商和材料研究实验室设备的*,为科研工作者提供材料研究解决方案。产品设计*、性能优异,质量可靠,性价比高,环保节能、返修率低,远销到欧洲,美国,日本,德国等许多国家,广泛应用于物理、化学、冶金、医学、新能源材料研发等领域,受到客户*好评。
 
  科晶公司秉承"以人为本、技术为导、诚信为基、积极创新"的经营理念,全力打造材料研发设备的品牌,竭力为科学进步和社会发展做出贡献。
 

真空管式炉,高温箱式炉,高速震动球磨机,RTP快速退火炉,高温高压炉,涂覆机,电池制备设备等

技术参数

结构

(点击图片查看详细资料)

输入电源

  • 220VAC 50/60Hz, 单相
  • 2000W  (包括泵)

溅射电源

  • 安装有两个溅射电源
  • 直流(DC)电源:500W,针对于制作金属膜
  • 射频(RF)电源:600W,可制作氧化物和金属膜
  • 同时可选配300W的射频电源

磁控溅射头

  • 仪器中安装有2个磁控溅射头,而且都带有水冷夹层,可通入冷却水对靶材降温
  • 其中一个溅射头与射频电源相连接,主要是溅射绝缘性靶材
  • 另一个溅射头与直流电源相连接,主要溅射导电性靶材
  • 靶材尺寸要求:金属靶:直径为50mm,zui大厚度1.5mm
  •              陶瓷靶:直径为50mm,zui大厚度6mm
  • 仪器中标配一个不锈钢靶和氧化铝陶瓷靶
  • 溅射头所需冷却水:流速10ml/min(仪器中配有一台流速为16ml/min的循环水冷机)

也可以根据自己的要求选择2个射频溅射头或3个射频溅射头,订购前需于本公司销售人员

真空腔体

  • 真空腔体:300 mm Dia x 300 mm h,采用不锈钢制作
  • 观察窗口:  100 mm diameter
  • 腔体打开方式采用上顶开,使得换靶更加容易

载样台

  • 载样台尺寸:140mm dia.(zui大可放置4"的基底)
  • 载样台可以旋转,其速度为:1 - 20 rpm (可调)
  • 载样台zui高可加热温度为500℃,控温精度为+/- 1.0 °C

气体流量控制器

  • 仪器内部安装有2个质量流量计
  • 量程为:0-200sccm
  • 气体流量设置可以在6英寸的触摸屏上进行操作

真空泵系统

配有一套分子泵系统(德国制作),采用一键式操作

薄膜测厚仪

  • 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上,可实时监测薄膜的厚度,分辨率为0.10 Å  
  • LED显示屏显示,同时也输入所制作薄膜的相关数据

外形尺寸

L1300mm× W660mm× H1200mm

重量

160 kg

质保期

一年质保期,终生维护

 

 

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