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利用ICP-MS对半导体级盐酸中的杂质进行分析

来源:珀金埃尔默企业管理(上海)有限公司   2017年05月23日 10:53  

在半导体设备的生产过程中,许多流程中都要用到各种酸类试剂。其中重要的是盐酸(HCl),其主要用途是与过氧化氢和水配制成混合物用来清洁硅晶片的表面。由于半导体设备尺寸不断缩小,其生产中使用的试剂纯度变得越来越重要,这是因为即使是少量杂质也会导致设备的失效。SEMI 标准规定的是金属杂质的大浓度(SEMI 标准C27-07081 用于盐酸),而半导体设备的生产商对杂质浓度的要求往往更加严格,这样就给试剂供应商带来了更大的挑战。其结果是,分析仪器也必须能够对更低浓度的杂质成分检测。

电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)具备测定纳克/ 升(ng/LPPT)甚至更低浓度元素含量的能力,是测量痕量及超痕量金属的技术。然而,常规的测定条件下,氩、氧、氢离子会与酸基体相结合,对待测元素产生多原子离子干扰。

珀金埃尔默公司的NexION® 2000 电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)可提供多种*消除多原子离子干扰的方式。具有三路气体通道的通用池在反应模式下具备大的做样灵活性。由于通用池是由四极杆组成的,具备四极杆的所有功能,包括通过调整四极杆的“q”参数控制通用池中的化学反应进行。这一优势使得在池内使用高反应性气体成为可能,这大大提高了干扰去除的能力。在三路气体通道可用的情况下,三种不同的气体可以在同一次进样中自由切换,得以选择出针对某一特定干扰消除的*反应气体。在盐酸分析中,除去氯的干扰是至关重要的,目前有效的反应气是100% 高纯氨气和100% 高纯氧气。

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